[发明专利]一种超低吸附移液吸头的表面处理方法在审
| 申请号： | 202110215342.5 | 申请日： | 2021-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN113004567A | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 张胜有;叶竹青;季开文 | 申请（专利权）人： | 苏州赛普生物科技有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/12 | 分类号： | C08J7/12;B01L3/02 |
| 代理公司： | 北京易捷胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11613 | 代理人： | 韩国胜 |
| 地址： | 215024 江苏省苏州市工业园*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 吸附 吸头 表面 处理 方法 | ||
1.一种超低吸附移液吸头的表面处理方法，其特征在于，包括如下步骤：
S1：将未经处理的移液吸头放置在等离子表面处理设备中，通入第一气体，对移液吸头进行表面清洗；
S2：向等离子表面处理设备中补充第二气体，第二气体在等离子表面处理设备中电离出正负电荷，对移液吸头表面进行疏水改性处理；S3：将经过疏水改性处理的移液吸头进行干燥；
S4：利用含氟物质对步骤S3经过干燥的移液吸头进行表面修饰，得到超低疏水性吸附移液吸头。
2.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述步骤S1中，第一气体为空气；
所述步骤S2中，第二气体为氮气和二氧化碳的混合物。
3.根据权利要求2所述的表面处理方法，其特征在于，所述氮气和二氧化碳的体积比为1：3。
4.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述步骤S1和所述步骤S2中，空气纯净度大于等于10万级别。
5.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述步骤S1和所述步骤S2中，等离子体表面处理设备中的温度为20-30℃，相对空气湿度为40％-70％。
6.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述步骤S3中，将经过疏水处理的移液吸头放置在两涂两烤配备的烤箱中，同时采用红外线辐射和热风循环对移液吸头进行干燥。
7.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述步骤S4中，含氟物质为含氟表面活性剂。
8.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述步骤S1和所述步骤S2中，先利用真空泵将等离子体表面设备抽真空，达到0.02-0.03mbar的真空度；在该真空度条件下，在高频发生器作用下，吸入100-300sccm第一气体或第二气体进行电离形成等离子体，排气量设为350000-453883.1Mt，处理功率设为800W，对移液吸头进行表面疏水性处理。
9.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述步骤S1中，移液吸头的清洗时长为5-10min。
10.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述步骤S2中，移液吸头的表面疏水改性处理时长为10-20min。
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