[发明专利]显示面板及显示装置

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板的阳极；

位于所述衬底基板的辅助提取层，所述辅助提取层具有第一开口，所述阳极在所述衬底基板上的正投影与所述第一开口交叠；

位于所述阳极背向所述衬底基板一侧、且位于所述第一开口内的发光层；

位于所述辅助提取层背向所述衬底基板一侧的光提取层；

位于所述光提取层背向所述衬底基板一侧的阴极；

位于所述阴极背向所述衬底基板一侧的封装层；

其中，所述辅助提取层用于将所述发光层发出的至少部分大角度的光转换为小角度的光，所述光提取层的折射率小于所述封装层的折射率；

所述辅助提取层包括用于形成所述第一开口的第一侧壁、以及与所述第一侧壁相交且远离所述衬底基板一侧的第一顶面，所述第一侧壁与所述第一顶面之间的角度为θ，θ≤90°。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在垂直所述衬底基板所在平面的方向上，所述第一开口的深度大于所述阳极和所述发光层的膜厚之和。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述辅助提取层的折射率小于所述发光层的折射率。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述辅助提取层位于所述阳极背向所述衬底基板的一侧，所述第一开口贯穿所述辅助提取层，所述阳极的至少部分暴露在所述第一开口内；

所述辅助提取层复用为所述阴极与所述阳极之间的像素定义层。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一开口为不贯穿所述辅助提取层的凹槽，所述阳极位于所述第一开口内；

所述显示面板还包括晶体管层，所述辅助提取层复用为所述晶体管层与所述阳极之间的平坦化层。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述光提取层复用为所述辅助提取层与所述阴极之间的像素定义层。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述光提取层在所述衬底基板上的正投影覆盖所述辅助提取层在所述衬底基板上的正投影，并且，所述光提取层具有暴露所述第一开口的多个第二开口。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述光提取层包括与多个所述第一开口对应的多个光提取结构；

所述辅助提取层包括围绕所述第一开口的开口临近区和围绕所述开口临近区的开口非临近区，所述光提取结构位于所述开口临近区内。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述光提取结构在所述衬底基板上的正投影与所述第一开口的至少部分边缘相交。

10.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，各所述光提取结构包括多个凸起部，多个所述凸起部围绕所述第一开口。

11.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述光提取结构为环绕所述第一开口的封闭结构。

12.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，与相邻两个所述第一开口对应的所述光提取结构之间还设有支撑结构。

13.根据权利要求12所述的显示面板，其特征在于，所述支撑结构与所述光提取结构采用同一构图工艺形成。

14.根据权利要求13所述的显示面板，其特征在于，所述支撑结构由遮光材料形成。

15.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述光提取层与所述辅助提取层的折射率相同。

16.根据权利要求15所述的显示面板，其特征在于，所述光提取层与所述辅助提取层采用同一构图工艺形成。