[发明专利]一种超微孔氧化硅的制备有效

专利信息
申请号: 202110169055.5 申请日: 2021-02-07
公开(公告)号: CN112940238B 公开(公告)日: 2022-10-25
发明(设计)人: 肖永厚;李成斌;赵友 申请(专利权)人: 大连理工大学盘锦产业技术研究院
主分类号: C08G65/08 分类号: C08G65/08;C08G65/06;C01B33/12
代理公司: 北京久维律师事务所 11582 代理人: 邢江峰
地址: 124221 辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 微孔 氧化 制备
【权利要求书】:

1.一种聚氧乙烯-聚氧丙烯-聚氧乙烯三嵌段共聚物表面活性剂在制备合成超微孔二氧化硅中的应用,其特征在于,聚氧乙烯-聚氧丙烯-聚氧乙烯三嵌段共聚物表面活性剂如式(I),分子式为PEO35-PPO7-PEO35,化学结构式为

(I),分子量为3858。

2.如权利要求1所述的聚氧乙烯-聚氧丙烯-聚氧乙烯三嵌段共聚物表面活性剂在制备合成超微孔二氧化硅中的应用,其特征在于包括以下步骤:

步骤S1,将所述的三嵌段共聚物表面活性剂与正丁醇及去离子水混合,或将所述的三嵌段共聚物表面活性剂与去离子水混合;

步骤S2,将步骤S1所得溶液磁力搅拌,并加入质量分数37%的浓盐酸和正硅酸乙酯;

步骤S3,步骤S2所得溶液搅拌反应后,转移至反应釜进行水热反应;

步骤S4,步骤S3所得溶液自然冷却后经抽滤、蒸馏水洗涤至中性和干燥,即得到含表面活性剂的氧化硅粉末;

步骤S5,将步骤S4得到的含表面活性剂的氧化硅粉末充分研磨后,置于马弗炉煅烧得到超微孔二氧化硅。

3.如权利要求2所述的聚氧乙烯-聚氧丙烯-聚氧乙烯三嵌段共聚物表面活性剂在制备合成超微孔二氧化硅中的应用,其特征在于正硅酸乙酯:表面活性剂:浓盐酸:去离子水的物料摩尔比为1:0.025:1.92:194。

4.如权利要求2所述的聚氧乙烯-聚氧丙烯-聚氧乙烯三嵌段共聚物表面活性剂在制备合成超微孔二氧化硅中的应用,其特征在于正硅酸乙酯:表面活性剂:浓盐酸:去离子水:正丁醇的物料摩尔比为1:0.025:1.92:194:1.3。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连理工大学盘锦产业技术研究院,未经大连理工大学盘锦产业技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110169055.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top