[发明专利]一种激光设备及其控制方法

权利要求书

1.一种激光设备，其特征在于，包括：

第一基板，包括多个第一固定孔，其中，所述第一固定孔内包括绝缘层；

激光器阵列，设置在所述第一基板上，所述第一固定孔包围所述激光器阵列，其中，所述激光器阵列至少包括多个第一激光器和多个第二激光器，所述第一激光器和所述第二激光器相互独立，多个所述第一激光器阵列分布，且所述第一激光器具有多个台面结构；

第二基板，设置在所述第一基板上，所述第二基板包括第一台阶部和第二台阶部，所述第一台阶部的宽度大于所述第二台阶部的宽度，且所述第一台阶部和所述第二台阶部通过通孔连接，所述第一台阶部与所述激光器阵列接触；

光学元件，所述光学元件包括透镜阵列和扩散器阵列，所述透镜阵列位于所述第二激光器上，所述扩散器阵列位于所述第一激光器上；

其中，所述第一激光器的功率密度小于所述第二激光器的功率密度，所述第一激光器的发光孔的面积大于所述第二激光器发光孔的面积，所述第二激光器发射的激光束经过所述透镜阵列后的发散角小于所述第一激光器发射的激光束的发散角，所述第一激光器探测的距离小于所述第二激光器探测的距离。

2.根据权利要求1所述的激光设备，其特征在于，所述光学元件设置在所述第二台阶部上或者直接设置在所述激光器上。

3.根据权利要求1所述的激光设备，其特征在于，所述激光器阵列还包括多个连接区，多个所述连接区位于所述第一激光器和所述第二激光器的两侧。

4.根据权利要求1所述的激光设备，其特征在于，所述第一激光器的发光孔包括矩形发光孔，所述矩形发光孔的短边与长边的比值小于等于1/4。

5.根据权利要求1所述的激光设备，其特征在于，所述第二基板上包括多个第二固定孔，所述第二固定孔对应所述第一固定孔。

6.根据权利要求3所述的激光设备，其特征在于，所述第一台阶部上包括多个焊盘区，所述焊盘区对应所述连接区。

7.根据权利要求1所述的激光设备，其特征在于，所述第一激光器和所述第二激光器包括多结的垂直腔面发射激光器。

8.根据权利要求3所述的激光设备，其特征在于，所述激光器阵列背面的负极连接所述第一基板，所述激光器阵列正面的正极连接所述连接区。

9.根据权利要求1所述的激光设备，其特征在于，所述激光器阵列的负极和正极连接所述第一基板，所述正极和所述负极位于所述激光器阵列的同一侧。

10.一种激光设备的控制方法，其特征在于，包括：

提供一激光设备，其中，所述激光设备包括：

第一基板，包括多个第一固定孔，其中，所述第一固定孔内包括绝缘层；

激光器阵列，设置在所述第一基板上，所述第一固定孔包围所述激光器阵列，其中，所述激光器阵列至少包括多个第一激光器和多个第二激光器，所述第一激光器和所述第二激光器相互独立，多个所述第一激光器阵列分布，且所述第一激光器具有多个台面结构；

第二基板，设置在所述第一基板上，所述第二基板包括第一台阶部和第二台阶部，所述第一台阶部的宽度大于所述第二台阶部的宽度，且所述第一台阶部和所述第二台阶部通过通孔连接，所述第一台阶部与所述激光器阵列接触；

光学元件，所述光学元件包括透镜阵列和扩散器阵列，所述透镜阵列位于所述第二激光器上，所述扩散器阵列位于所述第一激光器上；

其中，所述第一激光器的功率密度小于所述第二激光器的功率密度，所述第一激光器的发光孔的面积大于所述第二激光器发光孔的面积，所述第二激光器发射的激光束经过所述透镜阵列后的发散角小于所述第一激光器发射的激光束的发散角；

激发多个所述第二激光器，形成第一激光束，所述第一激光束经过物体反射后形成第二激光束；

通过传感器接收所述第二激光束，并判断所述第二激光束的光子能量是否大于阈值；

若是，则激发所述第一激光器，并关闭所述第二激光器；

若否，则依次激发所述第一激光器和其他的所述第二激光器，其中，所述第一激光器探测的距离小于所述第二激光器探测的距离，当所述第二激光器探测的距离大于预设值时，则关闭所述第一激光器。