[发明专利]一种电场调控的传感器制备方法在审

专利信息
申请号: 202110046848.8 申请日: 2021-01-14
公开(公告)号: CN113369108A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 王太宏;岳泉;肖松华;李志斌 申请(专利权)人: 南方科技大学
主分类号: B05D1/04 分类号: B05D1/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518055 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 电场 调控 传感器 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种电场调控的传感器制备方法,其特征在于,包括:射流的产生、聚焦和运动控制部分;根据所加工的传感器敏感结构形貌,设计带电流体运动轨迹,构建控制电场,通过电场调控射流的产生和沉积,制备传感器敏感结构;

所构建一级电场,所选用流体在电场作用下喷射产生极细射流;

所构建二级电场,带电射流受到电场力的聚焦作用,形成稳定单股射流;

所构建三级电场,控制带电射流的运动,实现带电射流的结构化沉积,并对沉积的流体进行固化,制备得到传感器敏感结构。

2.根据权利要求1所述的一种电场调控的传感器制备方法,其特征在于:所构建一级电场强度范围在50kV/m~400kV/m。

3.根据权利要求2所述一种电场调控的传感器制备方法,其特征在于:构建电场所需的喷头、收集装置可以为不锈钢、铜合金、铝合金或者碳纳米管,喷头与收集装置距离在1mm~100mm。

4.根据权利要求1所述的一种电场调控的传感器制备方法,其特征在于:所述二级电场通过引入辅助电极进行构建;辅助电极可以为金属圆环、金属板、金属锥形或者其它形状具有聚焦作用的电极,辅助电极材料可以为不锈钢、铝合金、铜合金或者碳纳米管。

5.根据权利要求4所述的一种电场调控的传感器制备方法,其特征在于:所述辅助电极置于距带电射流喷射出口0~20mm区域,辅助电极可沿带电射流喷射出口中心轴线方向移动,对电场进行调节。

6.根据权利要求1所述的一种电场调控的传感器制备方法,其特征在于:所述三级电场的构建是根据传感器敏感结构形貌,规划带电流体运动轨迹,设计控制射流相应运动的电场;射流运动控制电场可用可编程高压电源和两块相互垂直的金属极板来进行构建,可编程高压电源的输出端分别与两金属极板相连。

7.根据权利要求6所述的一种电场调控的传感器制备方法,其特征在于:所述可编程高压电源输出特定波形电压信号,在两个金属极板之间区域产生变化电场;单股稳定射流通过该区域在电场力作用下按照一定轨迹运动,从而实现结构化沉积。

8.根据权利要求7所述的一种电场调控的传感器制备方法,其特征在于:两块金属极板之间的距离在1mm~80mm,两块金属极板与用于收集带电射流的结构化沉积的收集装置之间的距离在1mm~50mm范围可调,金属极板材料可以为不锈钢、铝合金、铜合金或者碳纳米管。

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