[发明专利]用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法

权利要求书

1.一种用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物，包含：

其中氮经1至2个碳数为1至5的线性或支化烷基取代的酰胺化合物；

胺化合物；

极性有机溶剂；

水合肼；和

基于三唑的化合物。

2.根据权利要求1所述的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物，其中：

所述水合肼与所述基于三唑的化合物之间的重量比为50:1至1:10。

3.根据权利要求1所述的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物，其中：

基于100重量份的所述胺化合物，所述剥离剂组合物以1重量份至100重量份的量包含所述水合肼。

4.根据权利要求1所述的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物，其中：

基于100重量份的所述胺化合物，所述剥离剂组合物以1重量份至25重量份的量包含所述基于三唑的化合物。

5.根据权利要求1所述的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物，其中：

所述基于三唑的化合物包括选自以下中的一种或更多种化合物：2,2’[[(甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]亚氨基]双乙醇、4,5,6,7-四氢-1H-苯并三唑、1H-苯并三唑、1H-1,2,3-三唑和甲基1H-苯并三唑。

6.根据权利要求1所述的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物，其中：

所述胺化合物包括重均分子量为95g/mol或更大的环状胺化合物。

7.根据权利要求1所述的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物，其中：

所述胺化合物包括选自以下中的一种或更多种化合物：1-咪唑烷乙醇、4-咪唑烷乙醇、羟乙基哌嗪和氨乙基哌嗪。

8.根据权利要求1所述的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物，其中：

所述其中氮经1至2个碳数为1至5的线性或支化烷基取代的酰胺化合物包括以下化学式1的化合物：

[化学式1]

在所述化学式1中，

R₁为氢、甲基、乙基或丙基，

R₂为甲基或乙基，

R₃为氢或者碳数为1至5的线性或支化烷基，以及

R₁和R₃任选地彼此连接以形成环。

9.根据权利要求1所述的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物，其中：

所述极性有机溶剂包括选自以下中的一者或更多者：亚烷基二醇单烷基醚、吡咯烷酮、砜和亚砜。

10.根据权利要求1所述的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物，

其中所述剥离剂组合物包含：

10重量％至50重量％的所述其中氮经1至2个碳数为1至5的线性或支化烷基取代的酰胺化合物；

0.1重量％至10重量％的所述胺化合物；

20重量％至60重量％的所述极性有机溶剂；

0.01重量％至10重量％的所述水合肼；

0.01重量％至5.0重量％的所述基于三唑的化合物；和

剩余量的水，

其中所述剥离剂组合物中各组分的含量百分数之和等于100重量％。

11.一种用于剥离光致抗蚀剂的方法，包括使用根据权利要求1所述的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物剥离光致抗蚀剂的步骤。