[发明专利]一种银金属薄膜层蚀刻液及其制备、应用

权利要求书

1.一种银金属薄膜层蚀刻液，其特征在于，由以下质量百分比组分组成：

磷酸55％，醋酸15％，硝酸5-6.5％，醋酸盐0.7-1％，亚氨基类0.1-0.2％，咪唑啉类衍生物0.1-0.2％，余量为水；

所述醋酸盐为乙酸钠、乙酸钾、乙酸铅、乙酸锌或乙酸钙；

所述亚氨基类为脯氨酸、甘氨酸、丙氨酸、亮氨酸、胱氨酸、半胱氨酸、甲硫氨酸、苏氨酸、丝氨酸、苯丙氨酸、酪氨酸、脯氨酸、蛋氨酸或羟脯氨酸；

所述咪唑啉类衍生物为三苯环咪唑啉酰胺、咪唑啉酰胺、油酸基羟乙基咪唑啉、环烷基咪唑啉、咪唑啉酮或1-丁基-3-甲基咪唑氯盐。

2.根据权利要求1所述的一种银金属薄膜层蚀刻液，其特征在于，包括以下质量百分比组分：

磷酸55％，醋酸15％，硝酸5-6.5％，醋酸盐0.7％，亚氨基类0.1-0.2％，咪唑啉类衍生物0.15％，余量为水。

3.根据权利要求1所述的一种银金属薄膜层蚀刻液，其特征在于，包括以下质量百分比组分：

磷酸55％，醋酸15％，硝酸6.5％，醋酸盐0.7％，亚氨基类0.1％，咪唑啉类衍生物0.15％，余量为水。

4.如权利要求1-3任一项所述的一种银金属薄膜层蚀刻液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、将磷酸、醋酸和硝酸按比例混合获得混合酸；

S2、按比例向混合酸中添加醋酸盐、亚氨基类和咪唑啉类衍生物，混合均匀获得银金属薄膜层蚀刻液。

5.如权利要求1-3任一项所述的一种银金属薄膜层蚀刻液的应用，其特征在于，用于蚀刻由银或银合金形成的单层膜，或用于蚀刻由单层膜和透明导电膜构成的多层膜。