[发明专利]用于改善掩模图案生成一致性的方法

权利要求书

1.一种非暂时性计算机可读介质，所述非暂时性计算机可读介质包括指令，所述指令在由一个或多个处理器执行时，引起所述一个或多个处理器执行确定用于待印制在衬底上的目标图案的掩模图案的方法，所述方法包括：

参考所述目标图案上的给定位置，将包括所述目标图案的设计布局的一部分划分成多个单元；

在所述多个单元中的特定单元内分配多个变量，所述特定单元包括所述目标图案或所述目标图案的一部分；以及

基于所述多个变量的值，基于图案化过程的性能度量确定所述目标图案的掩模图案，其中确定所述掩模图案包括：

使用所述目标图案和所述多个变量模拟所述图案化过程，以基于所述性能度量确定所述多个变量的值；以及

基于所确定的多个变量的值来生成用于所述目标图案的掩模图案。

2.根据权利要求1所述的介质，其中，划分所述设计布局的一部分是基于Voronoi方法，其中基于边界与所述目标图案上的给定位置之间的距离来确定所述多个单元中的每个单元的边界。

3.根据权利要求2所述的介质，其中，所述多个单元中的每个单元的边界被定义成使得，相比于所述设计布局内的其他位置，每个单元中的点最接近于所述给定位置。

4.根据权利要求1所述的介质，其中，所述给定位置是所述目标图案的中心、所述目标图案的边缘上的点、或者与所述目标图案具有预定义几何关系的点。

5.根据权利要求1所述的介质，其中，所述设计布局与第一坐标系相关联，并且所述多个单元与第二坐标系相关联，其中所述多个变量的值在所述第二坐标系中被表示，并且能够被转换成在所述第一坐标系中表示的值。

6.根据权利要求5所述的介质，其中，确定所述掩模图案是迭代过程，所述迭代过程包括：

(a)调整所述特定单元的多个变量中的一个或多个变量的值；

(b)将所述一个或多个变量的经调整的值转换到所述设计布局的第一坐标系；

(c)通过使用所述一个或多个变量的经转换的值模拟所述图案化过程，确定所述图案化过程的性能度量；

(d)确定所述性能度量是否在期望的性能范围内；

(e)响应于所述性能度量在期望的性能范围内，基于所述经调整的值来确定所述掩模图案；以及

(f)响应于所述性能度量不在期望的性能范围内，执行(a)-(e)。

7.根据权利要求6所述的介质，其中，转换所述一个或多个变量的经调整的值包括：

建立所述设计布局的第一坐标系与所述多个单元的第二坐标系之间的相关性；

基于所述相关性，将所述一个或多个变量的经调整的值从所述第二坐标系转换到所述设计布局的第一坐标系；以及

使用所述一个或多个变量的经转换的值模拟所述图案化过程。

8.根据权利要求1所述的介质，其中，所述多个变量与多个像素相关，并且所述多个变量中的给定变量的值是与所述多个像素中的给定像素或像素组合相关联的强度，其中所述强度是待包括在所述掩模图案中的特征的边缘的指示。

9.根据权利要求1所述的介质，其中，生成用于所述目标图案的掩模图案包括：

将所述多个变量的值转换成像素化图像，所述像素化图像是灰度掩模图像的数学表示，或者所述像素化图像生成曲线掩模图案作为水平集函数。

10.根据权利要求1所述的介质，其中，所述方法进一步包括：

将使用所述目标图案所确定的所述多个变量的值应用到所述设计布局中的目标图案的其他实例；以及

基于应用到所述目标图案的实例的值，确定掩模图案，以引起所述目标图案的多个实例被修改来生成掩模图案。

11.根据权利要求1所述的介质，其中，所述方法进一步包括：

确定所述多个单元之间的或所述特定单元内的对称部分；以及

对所述多个单元中的每个单元的对称部分分配相同的变量集。