[发明专利]用于压力和惯性传感器设备的微机械构件

权利要求书

1.用于压力和惯性传感器设备的微机械构件，所述微机械构件具有：

衬底(10)，所述衬底具有衬底表面(10a)；

撑开的膜片(12)，所述膜片具有朝向所述衬底表面(10a)定向的膜片内侧(12a)和远离所述衬底表面(10a)指向的膜片外侧(12b)，其中，所述膜片内侧(12a)邻接于内部容积(16)，在所述内部容积中封锁有参考压力(p₀)，并且其中，所述膜片(12)借助存在于所述膜片的膜片外侧(12b)上的压力(p)与所述参考压力(p₀)之间的压力差能够被翘曲；和

布置在所述内部容积(16)中的振动质量(14)；

其特征在于

设有在所述膜片内侧(10a)上突出的且伸入到所述内部容积(16)中的传感器电极(18)，所述传感器电极借助所述膜片(12)的翘曲相对于所述衬底(10)能够被调整。

2.根据权利要求1所述的微机械构件，其中，所述振动质量(14)由半导体材料层(28)的或者半导体材料层堆的至少一个半导体材料形成，并且其中，所述传感器电极(18)至少部分地同样由所述半导体材料层(28)的或者所述半导体材料层堆的至少一个半导体材料形成。

3.根据权利要求2所述的微机械构件，其中，布置在所述内部容积(16)中的且独立于所述振动质量(14)形成的参考电极(50)附加地由所述半导体材料层(28)的或者所述半导体材料层堆的所述至少一个半导体材料形成。

4.根据上述权利要求中任一项所述的微机械构件，其中，所述振动质量(14)通过至少一个弹簧装置(22)附接在所述衬底表面(10)上，使得所述振动质量(14)能够被置于调整运动中，所述调整运动具有沿着与所述衬底表面(10a)平行地伸展的调整轴线(24)定向的运动分量，并且其中，至少一个质量对应电极(26a和26b)固定地布置在所述内部容积(16)中，使得，如果所述振动质量(14)被置于具有沿着所述调整轴线(24)定向的运动分量的调整运动中，则所述振动质量(14)与相应的质量对应电极(26)的相应的间距(d_14-26)发生变化。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的微机械构件，其中，所述振动质量(14)具有摆杆结构(42)，所述摆杆结构能够被置于围绕与所述衬底表面(10)平行地定向的倾斜轴线(44)的摆动运动中，并且其中，第一质量对应电极(48a)和第二质量对应电极(48b)直接地或者间接地紧固在所述衬底表面(10a)上，使得，如果所述振动质量(14)的所述摆杆结构(42)被置于围绕所述倾斜轴线(44)的摆动运动中，则所述摆杆结构(42)与所述第一质量对应电极(48a)的第一间距(d_42a-48a)和所述摆杆结构(42)与所述第二质量对应电极(48b)的第二间距(d_42b-48b)发生变化。

6.根据权利要求5所述的微机械构件，其中，至少一个参考对应电极(40a、40b)在所述第一质量对应电极(48a)与所述第二质量对应电极(48b)之间直接地或者间接地紧固在所述衬底表面(10a)上。

7.具有根据上述权利要求中任一项所述的微机械构件的压力和惯性传感器设备。