[发明专利]蒸发室、电子设备、蒸发室用片、布置有多个蒸发室用中间体的片、卷绕布置有多个蒸发室用中间体的片而成的卷、以及蒸发室用中间体在审
| 申请号： | 202080062066.7 | 申请日： | 2020-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN114341586A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 高桥伸一郎;太田贵之;小田和范;武田利彦;竹松清隆;百濑辉寿 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | F28D15/04 | 分类号： | F28D15/04;H01L23/427;H05K7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 马莹;邓毅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蒸发 电子设备 室用片 布置 有多个 中间体 卷绕 以及 | ||
1.一种蒸发室，其在内侧具备密闭空间，在所述密闭空间中封入有工作流体，其中，
在所述密闭空间具有多个第1流路和设置于相邻的所述第1流路之间的第2流路，
在将相邻的2个所述第1流路的平均的流路截面积设为Ag、将配置于相邻的所述第1流路之间的多个所述第2流路的平均的流路截面积设为Al时，在至少一部分处，Al为Ag的0.5倍以下，
所述蒸发室具备：
具备成为所述第1流路和所述第2流路的槽的层；和
层叠于所述槽的内侧且构成所述第1流路的内表面和所述第2流路的内表面的层。
2.根据权利要求1所述的蒸发室，其中，
关于具备所述槽的层，其厚度在具备所述槽的部位和不具备槽的部位处不同。
3.一种电子设备，其中，
所述电子设备具备：
壳体；
电子部件，其被配置在所述壳体的内侧；以及
权利要求1或2所述的蒸发室，其被配置成与所述电子部件直接接触，或者被配置成隔着其他部件与所述电子部件接触。
4.一种蒸发室用片，其是在内侧设置有中空部的蒸发室用片，其中，
在所述中空部具有多个第1流路和设置于相邻的所述第1流路之间的第2流路，
在将相邻的2个所述第1流路的平均的流路截面积设为Ag、将配置于相邻的所述第1流路之间的多个所述第2流路的平均的流路截面积设为Al时，在至少一部分处，Al为Ag的0.5倍以下，
所述蒸发室用片具备：
具备成为所述第1流路和所述第2流路的槽的层；和
层叠于所述槽的内侧且构成所述第1流路的内表面和所述第2流路的内表面的层。
5.根据权利要求4所述的蒸发室用片，其中，
关于具备所述槽的层，其厚度在具备所述槽的部位和不具备槽的部位处不同。
6.一种蒸发室，其是在密闭空间中封入有工作流体的蒸发室，其中，
在所述密闭空间中具备：
冷凝液流路，其是供所述工作流体以冷凝液的状态移动的流路；和
流路截面积比所述冷凝液流路大的多个蒸气流路，它们供所述工作流体以蒸气和冷凝液的状态移动，
所述蒸发室具有：
多个所述冷凝液流路和多个所述蒸气流路呈直线状延伸的直线部；和
多个所述冷凝液流路和多个所述蒸气流路延伸的方向发生变化的弯曲部，其与所述直线部连续，
在所述弯曲部中，配置于内侧的所述蒸气流路的流路截面积比配置于外侧的所述蒸气流路的流路截面积大。
7.根据权利要求6所述的蒸发室，其中，
在所述弯曲部中，配置于内侧的所述蒸气流路的宽度比配置于外侧的所述蒸气流路的宽度大。
8.根据权利要求6或7所述的蒸发室，其中，
在所述弯曲部中，配置于内侧的所述蒸气流路的高度比配置于外侧的所述蒸气流路的高度大。
9.根据权利要求6至8中的任意一项所述的蒸发室，其中，
多个所述蒸气流路相连。
10.一种电子设备，其中，
所述电子设备具备：
壳体；
电子部件，其被配置在所述壳体的内侧；以及
权利要求6至9中的任意一项所述的蒸发室，其被配置成与所述电子部件直接接触，或者被配置成隔着其他部件与所述电子部件接触。
11.一种片，其是布置有多个用于蒸发室的中间体的片，其中，
所述片在内部设置有待成为工作流体的流路的中空部，
所述中空部被与外部隔断。
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