[发明专利]聚碳酸酯和亚乙烯基取代的芳族化合物的稳定组合物

权利要求书

1.一种组合物，其包含：

a)一种或多种聚碳酸酯；

b)一种或多种亚乙烯基芳族取代的聚合物；和

c)在25℃下将水中的pH控制在6.0至8.0的值的缓冲体系，其中所述缓冲体系以基于所述组合物的总重量计0.005重量％至0.035重量％的量存在。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中所述缓冲体系具有4与10之间的pKa。

3.根据权利要求1或2所述的组合物，其包含：

a)10重量％至95重量％的所述一种或多种聚碳酸酯；

b)0.5重量％至90重量％的所述一种或多种亚乙烯基芳族取代的单体；和

c)0.005重量％至0.035重量％的所述缓冲体系；

其中重量基于所述组合物的总重量。

4.根据权利要求1或2所述的组合物，其包含：

a)30重量％至70重量％的所述一种或多种聚碳酸酯；

b)10重量％至70重量％的所述一种或多种亚乙烯基芳族取代的单体；和

c)0.005重量％至0.035重量％的所述缓冲体系；

其中重量基于所述组合物的总重量。

5.根据权利要求1或2所述的组合物，其中所述缓冲体系以0.020重量％至0.035重量％的量存在。

6.根据权利要求1或2所述的组合物，其中所述亚乙烯基芳族取代的聚合物包含：

a)5重量％至40重量％的一种或多种不饱和腈；

b)1重量％至70重量％的一种或多种共轭二烯；和

c)25重量％至94重量％的所述一种或多种亚乙烯基芳族取代的单体。

7.根据权利要求1或2所述的组合物，其中所述缓冲体系包含无机缓冲剂、有机缓冲剂或两者。

8.根据权利要求1或2所述的组合物，其中所述缓冲体系包含抗衡离子，所述抗衡离子是包括钠、钾、钙或其任何组合的金属。

9.根据权利要求1或2所述的组合物，其中所述缓冲体系包含乙酸盐、磺酸盐、磷酸盐、氨、甲酸盐或其任何组合。

10.根据权利要求1或2所述的组合物，其中所述缓冲体系包含Good缓冲剂。

11.根据权利要求1或2所述的组合物，其中所述缓冲体系具有5.0至9.0的pKa。

12.根据权利要求1或2所述的组合物，其中所述组合物还包含添加剂，所述添加剂包括填料、纤维、热稳定剂、UV吸收剂、光稳定剂、光扩散剂、脱模剂、着色剂、颜料、染料或任何其他添加剂。

13.根据权利要求1或2所述的组合物，其中所述组合物基本上不含磷酸。

14.根据权利要求1或2所述的组合物，其包括：

a)将所述一种或多种聚碳酸酯、所述一种或多种亚乙烯基芳族取代的聚合物和所述缓冲体系混合；和

b)挤出所述混合的聚合物。

15.根据权利要求13所述的组合物，其中所述一种或多种亚乙烯基芳族取代的聚合物通过本体聚合方法聚合，所述本体聚合方法包括：

a)切割或切碎所述一种或多种共轭二烯的聚合物；

b)将所述一种或多种共轭二烯的聚合物、所述一种或多种不饱和腈和所述一种或多种亚乙烯基芳族取代的单体混合；

c)使所述一种或多种共轭二烯的聚合物、所述一种或多种不饱和腈和所述一种或多种亚乙烯基芳族取代的单体聚合以形成一种或多种亚乙烯基芳族取代的聚合物；

d)将所述一种或多种亚乙烯基芳族取代的聚合物脱气并再循环挥发性单体；以及

e)将所述一种或多种亚乙烯基芳族取代的聚合物造粒。

16.根据权利要求1或2所述的组合物，其中所述组合物为模制结构。