[发明专利]芯材料、电子部件和凸点电极的形成方法有效

专利信息
申请号: 202080030861.8 申请日: 2020-09-30
公开(公告)号: CN113767469B 公开(公告)日: 2022-10-25
发明(设计)人: 近藤茂喜;土屋政人;须藤皓纪;冈田弘史;相马大辅 申请(专利权)人: 千住金属工业株式会社
主分类号: H01L23/488 分类号: H01L23/488;H01L21/48;B23K35/26;C22C12/00;C22C13/02;C23C2/08;C23C2/34;C23C28/02;C25D3/30;C25D3/60;C25D7/00;C25D21/12
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 杨海荣;曲盛
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 材料 电子 部件 电极 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种芯材料,其特征在于,具备:

球形度为0.95以上的芯;

设置在所述芯的外侧的(Sn-Bi)系焊料合金的焊料层;和

设置在所述焊料层的外侧的Sn层,其中

在将所述焊料层中所含Bi的浓度比设为:

浓度比(%)=Bi测量值(质量%)/目标Bi含量(质量%)、或

浓度比(%)=Bi测量值的平均值(质量%)/目标Bi含量(质量%)时,

上述浓度比为91.4%~106.7%,

所述焊料层的厚度为单侧1μm以上,

所述Sn层的厚度为单侧0.1~12μm,

所述Sn层的厚度为所述焊料层的厚度的0.215%以上且36%以下。

2.一种芯材料,其特征在于,具备:

球形度为0.95以上的芯;

设置在所述芯的外侧的(Sn-58Bi)系焊料合金的焊料层;和

设置在所述焊料层的外侧的Sn层,其中

在将所述焊料层中所含Bi的浓度比设为:

浓度比(%)=Bi测量值(质量%)/目标Bi含量(质量%)、或

浓度比(%)=Bi测量值的平均值(质量%)/目标Bi含量(质量%)时,

上述浓度比为91.4%~108.6%,

所述焊料层的厚度为单侧1μm以上,

所述Sn层的厚度为单侧0.1~12μm,

所述Sn层的厚度为所述焊料层的厚度的0.215%以上且36%以下。

3.一种芯材料,其特征在于,具备:

球形度为0.95以上的芯;

设置在所述芯的外侧的(Sn-40Bi)系焊料合金的焊料层;和

设置在所述焊料层的外侧的Sn层,其中

在将所述焊料层中所含Bi的浓度比设为:

浓度比(%)=Bi测量值(质量%)/目标Bi含量(质量%)、或

浓度比(%)=Bi测量值的平均值(质量%)/目标Bi含量(质量%)时,

上述浓度比为90%~107.5%,

所述焊料层的厚度为单侧1μm以上,

所述Sn层的厚度为单侧0.1~12μm,

所述Sn层的厚度为所述焊料层的厚度的0.215%以上且36%以下。

4.根据权利要求3所述的芯材料,其特征在于,

所述(Sn-40Bi)系焊料合金的目标组成为Sn-40Bi-0.5Cu。

5.一种芯材料,其特征在于,具备:

球形度为0.95以上的芯;

设置在所述芯的外侧的(Sn-3Bi)系焊料合金的焊料层;和

设置在所述焊料层的外侧的Sn层,其中

在将所述焊料层中所含Bi的浓度比设为:

浓度比(%)=Bi测量值(质量%)/目标Bi含量(质量%)、或

浓度比(%)=Bi测量值的平均值(质量%)/目标Bi含量(质量%)时,

上述浓度比为90%~106.7%,

所述焊料层的厚度为单侧1μm以上,

所述Sn层的厚度为单侧0.1~12μm,

所述Sn层的厚度为所述焊料层的厚度的0.215%以上且36%以下。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的芯材料,其特征在于,

在所述芯与所述焊料层之间,设置有选自Ni和Co中的一种以上元素的基底镀层。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的芯材料,其特征在于,

使用Cu球作为芯。

8.一种电子部件,其特征在于,

将权利要求1至5中任一项所述的芯材料用作焊料凸点。

9.一种凸点电极的形成方法,包括:

将权利要求1至5中任一项所述的芯材料搭载于电极上的工序;和

通过将搭载的所述芯材料加热来形成凸点电极的工序。

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