[发明专利]芯材料、电子部件和凸点电极的形成方法有效
| 申请号: | 202080030861.8 | 申请日: | 2020-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN113767469B | 公开(公告)日: | 2022-10-25 |
| 发明(设计)人: | 近藤茂喜;土屋政人;须藤皓纪;冈田弘史;相马大辅 | 申请(专利权)人: | 千住金属工业株式会社 |
| 主分类号: | H01L23/488 | 分类号: | H01L23/488;H01L21/48;B23K35/26;C22C12/00;C22C13/02;C23C2/08;C23C2/34;C23C28/02;C25D3/30;C25D3/60;C25D7/00;C25D21/12 |
| 代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 杨海荣;曲盛 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 材料 电子 部件 电极 形成 方法 | ||
1.一种芯材料,其特征在于,具备:
球形度为0.95以上的芯;
设置在所述芯的外侧的(Sn-Bi)系焊料合金的焊料层;和
设置在所述焊料层的外侧的Sn层,其中
在将所述焊料层中所含Bi的浓度比设为:
浓度比(%)=Bi测量值(质量%)/目标Bi含量(质量%)、或
浓度比(%)=Bi测量值的平均值(质量%)/目标Bi含量(质量%)时,
上述浓度比为91.4%~106.7%,
所述焊料层的厚度为单侧1μm以上,
所述Sn层的厚度为单侧0.1~12μm,
所述Sn层的厚度为所述焊料层的厚度的0.215%以上且36%以下。
2.一种芯材料,其特征在于,具备:
球形度为0.95以上的芯;
设置在所述芯的外侧的(Sn-58Bi)系焊料合金的焊料层;和
设置在所述焊料层的外侧的Sn层,其中
在将所述焊料层中所含Bi的浓度比设为:
浓度比(%)=Bi测量值(质量%)/目标Bi含量(质量%)、或
浓度比(%)=Bi测量值的平均值(质量%)/目标Bi含量(质量%)时,
上述浓度比为91.4%~108.6%,
所述焊料层的厚度为单侧1μm以上,
所述Sn层的厚度为单侧0.1~12μm,
所述Sn层的厚度为所述焊料层的厚度的0.215%以上且36%以下。
3.一种芯材料,其特征在于,具备:
球形度为0.95以上的芯;
设置在所述芯的外侧的(Sn-40Bi)系焊料合金的焊料层;和
设置在所述焊料层的外侧的Sn层,其中
在将所述焊料层中所含Bi的浓度比设为:
浓度比(%)=Bi测量值(质量%)/目标Bi含量(质量%)、或
浓度比(%)=Bi测量值的平均值(质量%)/目标Bi含量(质量%)时,
上述浓度比为90%~107.5%,
所述焊料层的厚度为单侧1μm以上,
所述Sn层的厚度为单侧0.1~12μm,
所述Sn层的厚度为所述焊料层的厚度的0.215%以上且36%以下。
4.根据权利要求3所述的芯材料,其特征在于,
所述(Sn-40Bi)系焊料合金的目标组成为Sn-40Bi-0.5Cu。
5.一种芯材料,其特征在于,具备:
球形度为0.95以上的芯;
设置在所述芯的外侧的(Sn-3Bi)系焊料合金的焊料层;和
设置在所述焊料层的外侧的Sn层,其中
在将所述焊料层中所含Bi的浓度比设为:
浓度比(%)=Bi测量值(质量%)/目标Bi含量(质量%)、或
浓度比(%)=Bi测量值的平均值(质量%)/目标Bi含量(质量%)时,
上述浓度比为90%~106.7%,
所述焊料层的厚度为单侧1μm以上,
所述Sn层的厚度为单侧0.1~12μm,
所述Sn层的厚度为所述焊料层的厚度的0.215%以上且36%以下。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的芯材料,其特征在于,
在所述芯与所述焊料层之间,设置有选自Ni和Co中的一种以上元素的基底镀层。
7.根据权利要求1至5中任一项所述的芯材料,其特征在于,
使用Cu球作为芯。
8.一种电子部件,其特征在于,
将权利要求1至5中任一项所述的芯材料用作焊料凸点。
9.一种凸点电极的形成方法,包括:
将权利要求1至5中任一项所述的芯材料搭载于电极上的工序;和
通过将搭载的所述芯材料加热来形成凸点电极的工序。
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