[发明专利]具有“sfw-GME尾部”的cha和aft的分子筛共生物、制备和使用方法

权利要求书

1.一种分子筛，所述分子筛包含第一结构导向剂(SDA-1)、cha空穴、aft空穴和“sfw-GME”尾部，其中SDA-1包含N,N-二甲基-3,5-二甲基哌啶鎓阳离子或N,N-二乙基-2,6-二甲基哌啶鎓阳离子。

2.根据权利要求1所述的分子筛，其中SDA-1包含N,N-二甲基-3,5-二甲基哌啶鎓阳离子，所述cha空穴以所述尾部中的空穴的约45％至约65％、优选地约54％存在，所述aft空穴以所述尾部中的空穴的约18％至约28％、优选地约23％存在，并且剩余的为约7％至约37％、优选约23％的所述“sfw-GME”尾部中的较大空穴。

3.根据权利要求2所述的分子筛，其中所述“sfw-GME”尾部占所述分子筛或分子筛颗粒的体积的约35％-80％、优选地约68％。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的分子筛，其中所述分子筛为硅铝酸盐，并且水合硅铝酸盐的粉末XRD图案具有以下特征线，所述特征线具有对应的强度：

(a)＝±0.2，相对强度＝I/I0×100；相对强度5％的峰未列出

其中“相对强度”被定义为：与最大峰值高度相比，w(弱)20；m(中等)≥20且40；S(强)≥40且60；以及vs(非常强)≥60。

5.根据权利要求1所述的分子筛，其中SDA-1包含N,N-二乙基-2,6-二甲基哌啶鎓阳离子，所述cha空穴以所述尾部中的空穴的约55％至约75％、优选地约65％存在，所述aft空穴以所述尾部中的空穴的约0％至约10％、优选地约5％存在，并且剩余的为约15％至约45％、优选约30％的所述“sfw-GME”尾部中的较大空穴。

6.根据权利要求4所述的分子筛，其中所述“sfw-GME”尾部占所述分子筛或所述分子筛颗粒体积的约40％-80％、优选地约64％，并且所述分子筛具有单调递减的空穴尺寸分布。

7.根据权利要求4或5中任一项所述的分子筛，其中所述分子筛为硅铝酸盐，并且所述水合硅铝酸盐的粉末XRD图案具有以下特征线，所述特征线具有对应的强度：

(a)＝±0.2，相对强度＝I/I0×100；相对强度5％的峰未列出

其中“相对强度”被定义为：与最大峰值高度相比，w(弱)20；m(中等)≥20且40；S(强)≥40且60；以及vs(非常强)≥60。

8.根据权利要求1所述的分子筛，其中SDA-1包含N,N-二甲基-3,5-二甲基哌啶鎓阳离子，并且所述分子筛还包含1,3-双(1-金刚烷基)咪唑鎓阳离子，其中所述cha空穴以所述尾部中的空穴的约30％至约45％、优选地约39％存在，所述aft空穴以所述尾部中的空穴的约45％至约65％、优选地约54％存在，并且剩余的为约2％至约20％、优选约7％的所述“sfw-GME”尾部中的较大空穴。

9.根据权利要求7所述的分子筛，其中所述“sfw-GME”尾部占所述分子筛或所述分子筛颗粒的体积的约5％-45％、优选地约23％。

10.根据权利要求7或8中任一项所述的分子筛，其中所述分子筛为硅铝酸盐，并且所述水合硅铝酸盐的粉末XRD图案具有以下特征线，所述特征线具有对应的强度：

(a)＝±0.2，相对强度＝I/I0×100；相对强度5％的峰未列出

其中“相对强度”被定义为：与最大峰值高度相比，w(弱)20；m(中等)≥20且40；S(强)≥40且60；以及vs(非常强)≥60。