[实用新型]一种可适应于晶圆传递的广用型晶圆传递机构有效

申请号：	202023279801.6	申请日：	2020-12-30
公开（公告）号：	CN214226888U	公开（公告）日：	2021-09-17
发明（设计）人：	邓信甫;方超;刘大威;陈丁堃	申请（专利权）人：	上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体（上海）有限公司
主分类号：	H01L21/677	分类号：	H01L21/677;H01L21/67;B08B3/02
代理公司：	上海申新律师事务所 31272	代理人：	沈栋栋
地址：	200241 ***	国省代码：	上海;31
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摘要：
搜索关键词：	一种适应传递广用型晶圆机构
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【权利要求书】：

1.一种可适应于晶圆传递的广用型晶圆传递机构，其特征在于，包括第一晶圆导片传递区、晶圆清洗工艺区、晶圆干燥区和第二晶圆导片传递区，其中，所述晶圆清洗工艺区的一侧设有所述第一晶圆导片传递区，所述晶圆清洗工艺区的另一侧依次设有所述晶圆干燥区和所述第二晶圆导片传递区，所述晶圆清洗工艺区内设有若干个清洗槽，所述清洗槽的上侧设有用于夹持并传递晶圆盒的机械手。

2.如权利要求1所述的可适应于晶圆传递的广用型晶圆传递机构，其特征在于，还包括机械手清洗区，所述机械手清洗区设于所述晶圆清洗工艺区与所述第一晶圆导片传递区之间。

3.如权利要求1所述的可适应于晶圆传递的广用型晶圆传递机构，其特征在于，还包括喷气模组和喷液模组，每一所述清洗槽的一侧分别设有一所述喷液模组，每一所述清洗槽的另一侧分别设有若干所述喷气模组，且每一所述喷气模组所在位置的高度高于所述喷液模组所在位置的高度。

4.如权利要求3所述的可适应于晶圆传递的广用型晶圆传递机构，其特征在于，所述喷气模组的喷嘴由上至下向靠近所述清洗槽的中部的方向倾斜设置。

5.如权利要求4所述的可适应于晶圆传递的广用型晶圆传递机构，其特征在于，每一所述喷嘴的倾斜角度均为45°～75°。

6.如权利要求1所述的可适应于晶圆传递的广用型晶圆传递机构，其特征在于，每一所述清洗槽的上端面均为齿状结构。

7.如权利要求4所述的可适应于晶圆传递的广用型晶圆传递机构，其特征在于，若干所述喷嘴呈矩形阵列。

8.如权利要求1所述的可适应于晶圆传递的广用型晶圆传递机构，其特征在于，还包括供液装置，每一所述清洗槽的下侧内壁上分别设有一所述供液装置。

9.如权利要求1所述的可适应于晶圆传递的广用型晶圆传递机构，其特征在于，还包括入货窗口备载区，其中，所述第一晶圆导片传递区的一侧设有所述入货窗口备载区。

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