[实用新型]一种应用于液相等离子体电解技术的电解系统

说明书

本实用新型公开了一种应用于液相等离子体电解技术的电解系统，包括电解槽，还包括冷却单元，冷却单元上设有进口和出口，电解槽上设有出液口和进液口，电解槽的出液口与冷却单元的进口通过热液管连通，并在热液管上设有循环水泵，便于将电解槽内的热液泵入冷却单元，所述冷却单元的出口和电解槽进液口通过冷液管连通，便于冷却后的电解液回流至电解槽中，从而实现电解液循环冷却。该电解系统对电解槽内的电解液具有良好冷却效果和搅拌效果，且能够有效解决电解槽空间利用率低、移动困难的问题。

技术领域

本实用新型属于金属表面处理技术领域，具体涉及一种应用于液相等离子体电解技术的电解系统。

背景技术

液相等离子体电解技术，主要指在电解液中通过放电以实现材料表面改性的工艺，包括等离子体电解氧化（也称微弧氧化）和等离子体电解渗（渗氮、渗碳、渗硼及其共渗）两大类，是集电化学、热化学、等离子体化学以及高温相变等多效应耦合的极端非平衡过程，因其电解液环境和等离子体放电两个重要特征，在制备抗磨减摩、抗腐蚀、热防护等特殊功能化涂层方面具有独特的优势，近年来在镁合金、铝合金、钛合金、锆合金、钢铁等合金表面改性与强化应用领域引起广泛关注。

然而，液相等离子体电解过程超过50%的能量转化为电解液的热能，引起电解液沸腾，致使样品烧蚀、样品表面涂/渗层质量下降，并带来安全隐患。工作环境下最佳的电解液温度是在5-30℃。工业和实验室常使用循环冷却水冷却电解液，或通过冷却气体搅拌冷却，或使用石蜡冷却，但这种方法仅用于微弧氧化过程尚可，而对于等离子体电解渗过程所释放的大量热量难以控制。

另外，现有的电解槽常采用搅拌子或者机械搅拌的方式对电解液进行搅拌，容易导致电解液中部分电解质作用不均匀，从而影响成膜质量。电解槽具有一定的重量，当需要移动电解槽时需人工搬运，非常不方便。

因此，怎样改善电解槽中电解液的冷却效果和搅拌效果，以及怎样解决电解槽移动困难的问题都是本领域技术人员十分重视的问题。

发明内容

针对现有技术存在的上述不足，本实用新型的目的就在于提供一种应用于液相等离子体电解技术的电解系统。该电解系统对电解槽内的电解液具有良好冷却效果和搅拌效果，能够有效解决电解槽空间利用率低、移动困难的问题。

本实用新型的技术方案是这样实现的：

一种应用于液相等离子体电解技术的电解系统，包括电解槽，还包括冷却单元，冷却单元上设有进口和出口，电解槽上设有出液口和进液口，电解槽的出液口与冷却单元的进口通过热液管连通，并在热液管上设有循环水泵，便于将电解槽内的热液泵入冷却单元，所述冷却单元的出口和电解槽进液口通过冷液管连通，便于冷却后的电解液回流至电解槽中，从而实现电解液循环冷却。

进一步地，所述冷却单元包括冷水槽以及设置在冷水槽内的环形冷凝管，环形冷凝管的一端与热液管连通，环形冷凝管另一端与冷液管连通，所述冷水槽用于盛装冷却介质，便于与环形冷凝管内流通的电解液进行换热。

进一步地，电解槽内设有曝气盘，所述曝气盘设置在电解槽底部并通过连接管与气瓶连通，便于给曝气盘提供气体，从而利用曝气盘出来的气体对电解液进行充分搅拌。

进一步地，电解槽底部四角处分别设有万向轮，便于移动电解槽。

进一步地，在电解槽底设有支撑平台，电解槽固定放置在支撑平台上，所述支撑平台上设有用于放置循环水泵的容置腔，并在支撑平台底部四角处分别设有万向轮，便于通过移动支撑平台实现移动电解槽。

进一步地，电解槽进液口和出液口上下设置，且呈斜对角设置在电解槽上。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：