[实用新型]一种用于为硅片的研磨设备供应研磨液的系统

说明书

本实用新型实施例公开了一种用于为硅片的研磨设备供应研磨液的系统，所述系统可以包括：原料源，用于提供制备所述研磨液所需的各种原料；用于定量地接收来自所述原料源的各种原料的制备槽；设置在所述制备槽中的搅拌器，用于将接收在所述制备槽中的各种原料混合均匀以制备出所述研磨液；用于接收在所述制备槽中制备出的研磨液的供应槽，其中，所述研磨设备所需的研磨液由所述供应槽供应。

技术领域

本实用新型涉及半导体硅片生产技术领域，尤其涉及一种用于为硅片的研磨设备供应研磨液的系统。

背景技术

硅片的研磨设备在对硅片进行研磨时，通常需要为研磨设备供应研磨液，研磨液是由微小颗粒物如二氧化硅或其他物质悬浮在液体中形成的悬浮液，该微小颗粒通常由制备研磨液所需的原料之一的浆料原液提供。

为研磨设备供应研磨液可以通过厂务供应实现，然而厂务供应费用较高，另外由于厂务供应所需的供应管路较长，因此存大更大的研磨液泄漏的风险以及研磨液结晶导致管路堵塞的风险。

另一方面，在现有的用于为硅片的研磨设备供应研磨液的系统中，研磨液在制备槽中制备出并且由制备槽供应给研磨设备，在制备槽中制备出的研磨液被使用完之后，由于没有研磨液可以供应给研磨设备，因此研磨设备必须停机来等待新的研磨液在制备槽中被制备出，由此导致了研磨设备无法实现对硅片不间断的连续生产，影响生产效率。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型实施例期望提供一种用于为硅片的研磨设备供应研磨液的系统，该系统可以集成至研磨设备因此能够减小供应管路长度，并且该系统能够实现研磨设备不间断的连续生产。

本实用新型的技术方案是这样实现的：

本实用新型实施例提供了一种用于为硅片的研磨设备供应研磨液的系统，所述系统可以包括：

原料源，用于提供制备所述研磨液所需的各种原料；

用于定量地接收来自所述原料源的各种原料的制备槽；

设置在所述制备槽中的搅拌器，用于将接收在所述制备槽中的各种原料混合均匀以制备出所述研磨液；

用于接收在所述制备槽中制备出的研磨液的供应槽，其中，所述研磨设备所需的研磨液由所述供应槽供应。

本实用新型实施例提供了一种用于为硅片的研磨设备供应研磨液的系统，由于根据本实用新型的系统可以集成至研磨设备，因此与厂务供应相比供应管路较短，因此能够避免管路的泄漏和堵塞风险，另外由于该系统除了制备槽之外还包括供应槽，因此，与现有技术中制备槽中制备出的研磨液被使用完，没有研磨液可以供应给研磨设备导致研磨设备必须停机来等待新的研磨液被制备出的情况不同，本实用新型中可以由供应槽将研磨液供应给研磨设备，在供应槽中的研磨液即将使用完，或者说供应槽中的研磨液被使用至达到设定的最小量的情况下，可以在制备槽中事先制备研磨液然后供应给供应槽，使得供应槽中的研磨液不会出现被使用完的情况，由此可以实现研磨设备不间断的连续生产。

附图说明

图1为根据本实用新型的实施例的用于为硅片的研磨设备供应研磨液的系统的示意图；

图2为根据本实用新型的另一实施例的用于为硅片的研磨设备供应研磨液的系统的示意图；

图3为根据本实用新型的另一实施例的用于为硅片的研磨设备供应研磨液的系统的示意图；

图4为根据本实用新型的另一实施例的用于为硅片的研磨设备供应研磨液的系统的示意图；

图5为根据本实用新型的另一实施例的用于为硅片的研磨设备供应研磨液的系统的示意图；

图6为根据本实用新型的另一实施例的用于为硅片的研磨设备供应研磨液的系统的示意图；