[实用新型]一种双臂翻转的基膜展平装置有效

专利信息
申请号: 202022731400.3 申请日: 2020-11-23
公开(公告)号: CN213864641U 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 朱小峰;陈建新;郑世忠 申请(专利权)人: 无锡和烁丰新材料有限公司
主分类号: B65H23/26 分类号: B65H23/26
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214028 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 双臂 翻转 基膜展 平装
【说明书】:

实用新型公开了一种双臂翻转的基膜展平装置,包括底板,所述底板的顶面左侧设置有第一支板,且第一支板的顶部设置有出料辊,所述底板的顶面上设置有凹槽,且凹槽的底面右侧设置有伺服电机,并且伺服电机的输出端连接螺纹杆,所述螺纹杆贯穿滑块设置,且滑块与凹槽滑动连接,并且螺纹杆的左端与凹槽的左侧内壁轴承连接,所述凹槽的前后两侧设置有滑槽,且滑槽开设于底板上,所述凹槽左右两侧设置有固定座,且固定座设置于底板的顶面上,所述固定座与臂杆的底端转动连接,且臂杆的顶端设置有展平辊,并且支杆的两端与臂杆的中部固定连接。该双臂翻转的基膜展平装置能便于在对基膜展平加工时保障基膜的平整,避免其褶皱。

技术领域

本实用新型涉及基膜展平装置技术领域,具体为一种双臂翻转的基膜展平装置。

背景技术

基膜展平装置就是一种将基膜平整展开后进行加工的设备,为了对基膜进行加工需要将基膜进行展开后进行,基膜展平装置是必要设备。

但是现有的基膜展平装置不便于保持基膜平整,由于基膜本身材质较薄,目前大多基膜展平装置在对基膜展平时容易造成基膜起褶皱不平整,将影响基膜的加工。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种双臂翻转的基膜展平装置,以解决上述背景技术中提出现有的基膜展平装置不便于保持基膜平整的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种双臂翻转的基膜展平装置,包括底板,所述底板的顶面左侧设置有第一支板,且第一支板的顶部设置有出料辊,所述底板的顶面上设置有凹槽,且凹槽的底面右侧设置有伺服电机,并且伺服电机的输出端连接螺纹杆,所述螺纹杆贯穿滑块设置,且滑块与凹槽滑动连接,并且螺纹杆的左端与凹槽的左侧内壁轴承连接,所述凹槽的前后两侧设置有滑槽,且滑槽开设于底板上,所述凹槽左右两侧设置有固定座,且固定座设置于底板的顶面上,所述固定座与臂杆的底端转动连接,且臂杆的顶端设置有展平辊,并且支杆的两端与臂杆的中部固定连接,所述支杆上设置有固定块,且固定块与撑杆的顶端转动连接,所述的撑杆的底端两侧设置有凸杆,且凸杆置于滑槽内,并且凸杆与滑槽滑动连接,所述底板的顶面右侧设置有第二支板,且第二支板的顶端设置有收卷辊,所述第二支板的外侧设置有电马达,且电马达的轴端贯穿第二支板设置,并且电马达的轴端与收卷辊同轴连接。

优选的,所述出料辊和收卷辊分别与第一支板和第二支板是可拆卸结构,且出料辊与收卷辊相平行。

优选的,所述螺纹杆与滑块相垂直,且螺纹杆与滑块螺纹连接。

优选的,所述滑块的高度大于撑杆最底面至凹槽的距离。

优选的,所述展平辊的横截面的结构形状为中间高两端低的弧形。

优选的,所述撑杆与支杆的横轴中线共线。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该双臂翻转的基膜展平装置能便于在对基膜展平加工时保障基膜的平整,避免其褶皱:

1、通过开启伺服电机使螺纹杆转动,使得滑块在水平方向上进行往复移动,从而推动撑杆在凸杆作用下产生移动,进而使撑杆带动支杆在垂直方向上产生移动,实现两侧支杆交替往复垂直方向上产生移动,使得两侧臂杆连同展平辊同步在垂直方向交替往复进行移动。

附图说明

图1为本实用新型主视剖面结构示意图;

图2为本实用新型俯视结构示意图;

图3为本实用新型滑槽俯视结构示意图;

图4为本实用新型图2中A处放大结构示意图。

图中:1、底板;2、第一支板;3、出料辊;4、凹槽;5、伺服电机;6、螺纹杆;7、滑块;8、滑槽;9、固定座;10、臂杆;11、展平辊;12、支杆;13、固定块;14、撑杆;15、凸杆;16、第二支板;17、收卷辊;18、电马达。

具体实施方式

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