[实用新型]一种复合型真空校准装置

说明书

本实用新型公开了一种复合型真空校准装置，包括稳压室、校准室和底座，所述底座顶端的一侧设置有稳压室，所述第四管道顶端的一侧设置有第二管道。本实用新型通过检测分为静态检测和动态检测，静态比对法采用电容薄膜真空计作为参考标准，1x105～100Pa使用1000Torr的电容薄膜规做参考标准，100～1x101a使用1Trr的电容薄膜规做参考标准，所以装置采用静态比对法的校准范围为1x105～1x101pa，动态比对法动态比对法是通过向校准室中引入一定量的气体，同时通过校准室下方的限流抽气小孔对校准室连续抽气，在校准室形成动态稳定的气体压力，通过待检测规和IE414，做参考标准同时测量校准室压力，从而加强了该真空校准装置的检测效果。

技术领域

本实用新型涉及真空校准装置技术领域，具体为一种复合型真空校准装置。

背景技术

比较法真空校准装置用于真空计的校准，装置采用静态比对法、动态比对法两种方法，实现的校准范围为105～10+Pa，校准装置采用电容薄膜真空计(CDG)和电离真空计(IE414)作为参考标准，可对热偶真空计、压阻真空计、电阻真空计、电离真空计和真空表等工作用真空计进行校准；

传统的真空校准装置一般难以在检测的时候进行对比，且检测方式比较单一，因此需要对其进行改进。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种复合型真空校准装置，以解决上述背景技术中提出传统的真空校准装置检测方式单一的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种复合型真空校准装置，包括稳压室、校准室和底座，所述底座顶端的一侧设置有稳压室，所述稳压室一侧的底端设置有进气管，所述稳压室的一侧设置有抽气机构，所述稳压室的一侧设置有第三管道，所述第三管道的一侧设置有校准室，所述校准室的表面设置有加热带，所述校准室的一侧设置有测量机构，所述测量机构包括第一真空规、待检测规、真空计、第一管道、第二真空规以及第二真空规，所述第一真空规设置于稳压室的一侧，所述待检测规设置于第三管道的顶端，所述真空计设置于第三管道的底端，所述第一管道设置于加热带的一侧，所述第一管道一侧的顶端设置有第二真空规，所述第一管道一侧的底端设置有第三真空规，所述测量机构的底端设置有第四管道，所述第四管道的一侧设置有氮气罐，所述第四管道顶端的一侧设置有第二管道。

优选的，所述第二真空规与第三真空规大小相同，所述第二真空规与第三真空规相互平行。

优选的，所述稳压室与校准室的大小相同，所述稳压室与校准室呈对称分布。

优选的，所述加热带在校准室的表面设置有四组，所述加热带呈等间距分布。

优选的，所述抽气机构包括干泵、支管、分子泵以及连接管，所述干泵设置于底座的顶端，所述干泵的一侧设置有连接管，所述连接管的一侧设置有分子泵，所述分子泵的顶端设置有支管。

优选的，所述支管与连接管大小相同，所述支管与连接管相互垂直。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该复合型真空校准装置不仅加强了该真空校准装置的检测效果，实现了该真空校准装置对内部进行抽气，而且实现了该真空校准装置对校准室的加热性；

(1)检测分为静态检测和动态检测，静态比对法采用电容薄膜真空计作为参考标准，在关闭校准室下方插板阀后通过待检测规和参考标准同时测量校准室压力实现校准，1x105～100Pa使用1000Torr的电容薄膜规做参考标准， 100～1x101a使用1Trr的电容薄膜规做参考标准，所以装置采用静态比对法的校准范围为1x105～1x101pa，动态比对法动态比对法是通过向校准室中引入一定量的气体，同时通过校准室下方的限流抽气小孔对校准室连续抽气，在校准室形成动态稳定的气体压力，通过待检测规和IE414，做参考标准同时测量校准室压力，进行比对从而实现校准，其校准范围为101～104Pa，从而加强了该真空校准装置的检测效果；