[实用新型]一种镀膜均匀的真空镀膜装置有效

专利信息
申请号: 202022081222.4 申请日: 2020-09-21
公开(公告)号: CN213113492U 公开(公告)日: 2021-05-04
发明(设计)人: 卢林松 申请(专利权)人: 苏州双石真空镀膜有限公司
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50;C23C14/24
代理公司: 苏州欣达共创专利代理事务所(普通合伙) 32405 代理人: 刘盼盼
地址: 215000 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 镀膜 均匀 真空镀膜 装置
【说明书】:

实用新型提供一种镀膜均匀的真空镀膜装置,包括:底座和箱体,所述箱体内部前侧设有第一转盘,所述箱体内部后侧设有第二转盘,所述第一转盘和第二转盘中间位置固定安装有连接管,所述连接管内开设有通孔,所以通孔内设有转辊,所述箱体后表面安装有电机,所述电机与转辊后表面固定连接,所述底座上表面后侧设有真空泵,所述真空泵通过气管连接至箱体内部,与现有技术相比,该设计通过添加了第一转盘、第二转盘以及转辊,该设计通过转辊带动第一转盘和第二转盘转动,从而使产品旋转,产品位置进行变化,有助于提高镀膜效果,使镀膜均匀,本实用新型便于操作,镀膜均匀,同时方便取出。

技术领域

本实用新型属于真空镀膜领域,特别涉及一种镀膜均匀的真空镀膜装置。

背景技术

目前,真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术,在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上,真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

但是,现有的真空镀膜需要把待镀膜的产品放置到镀膜桶内部的真空室内,然后对膜料加热,膜料在加热到一定的温度后,膜料分子会产生挥发,挥发出的膜料分子沉积在真空室顶部的产品表面形成薄膜,但是真空中膜料分子多数沉积在真空室上侧,真空室底部的待镀膜产品镀膜效果较差,同时不方便将镀膜产品从镀膜桶内取出。

因此,现在亟需一种镀膜均匀的真空镀膜装置。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足,本实用新型目的是提供一种镀膜均匀的真空镀膜装置,通过第一转盘、第二转盘以及转辊,以解决上述背景技术中提出的镀膜不均匀,效果较差以及不方便将产品取出的问题,本实用新型便于操作,镀膜均匀,同时方便取出。

本实用新型的技术方案是这样实现的:一种镀膜均匀的真空镀膜装置,包括:底座和箱体,所述箱体前表面开设有进料口,所述箱体外表面通过铰链固定安装有门板,所述门板后表面安装有密封板,所述密封板与进料口配合连接,所述箱体内表面左右两侧均设有蒸发源,所述箱体内部前侧设有第一转盘,所述第一转盘后表面开设有转孔,所述第一转盘后表面连接有第一条形板,所述第一条形板前表面上侧开设有圆孔,所述转孔和圆孔内配合连接有转轴,所述箱体内部后侧设有第二转盘,所述第二转盘前表面连接有第二条形板,所述第一条形板和第二条形板对称安装在置物板上表面前后两侧,所述置物板上表面开设有置物槽,所述第一转盘和第二转盘中间位置固定安装有连接管,所述连接管内开设有通孔,所以通孔内设有转辊,所述箱体后表面安装有电机,所述电机与转辊后表面固定连接,所述底座上表面后侧设有真空泵,所述真空泵通过气管连接至箱体内部。

作为一优选的实施方式,所述底座上表面开设有凹槽,所述箱体外表面下侧固定安装在箱体内。

作为一优选的实施方式,所述转孔、第一条形板、圆孔、第二条形板、置物板以及置物槽均设有多组,多组所述转孔均匀开设在第一转盘后表面和第二转盘前表面,多组所述圆孔分别开设在第一条形板前表面和第二条形板后表面上侧,多组所述第一条形板和第二条形板分别通过转轴连接在第一转盘和第二转盘之间,多组所述置物板分别固定连接在多组第一条形板和第二条形板下表面,多组所述置物槽分别开设在多组置物板上表面。

作为一优选的实施方式,所述密封板中间位置开设有圆槽,所述圆槽内设有轴承,所述转辊、通孔以及轴承的横截面均为多边形,所述转辊前端配合连接在轴承内。

作为一优选的实施方式,所述第一条形板、第二条形板、置物板以及置物槽外表面均开设有网孔。

采用了上述技术方案后,本实用新型的有益效果是:本实用新型的一种镀膜均匀的真空镀膜装置,因本实用新型添加了第一转盘、第二转盘以及转辊,该设计通过转辊带动第一转盘和第二转盘转动,从而使产品旋转,产品位置进行变化,有助于提高镀膜效果,使镀膜均匀。

因本实用新型添加了连接管,该设计将第一转盘和第二转盘固定连接,本实用新型便于操作,镀膜均匀,同时方便取出。

附图说明

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