[实用新型]助熔剂法生长均匀的氮化物单晶的系统

权利要求书

1.一种助熔剂法生长均匀的氮化物单晶的系统，其特征在于包括：单晶生长单元、原料循环单元、搅拌单元和氮气供给单元；

所述单晶生长单元包括可供反应生长氮化物单晶的反应腔室，所述原料循环单元包括用以容置生长氮化物单晶所需原料的循环腔室，所述反应腔室与所述循环腔室相互连通，且所述原料能够在所述反应腔室与循环腔室之间循环流动；

所述搅拌单元至少用以对所述循环腔室和/或反应腔室内的原料进行搅拌；所述氮气供给单元至少用以向所述循环腔室和/或反应腔室内提供氮气；所述搅拌单元和氮气供给单元能够使氮离子于所述原料内均匀分布，并使所述原料中的金属镓和氮离子的摩尔比值维持在指定范围内。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于：所述原料循环单元还包括至少一第一输料管路和至少一第二输料管路，所述反应腔室分别经所述第一输料管路、第二输料管路与循环腔室连通；

其中，所述第一输料管路两端的管口分别设置在所述反应腔室的底部、循环腔室的底部，且所述第一输料管路还与一泵连接配合，以将反应腔室底部的原料输送至循环腔室的底部；

所述第二输料管路的物料入口设置在所述循环腔室的中上部，物料出口设置在所述反应腔室的中下部，所述循环腔室中的原料能够沿所述第二输料管路自流入至所述反应腔室内。

3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于：所述搅拌单元包括第一搅拌单元，所述第一搅拌单元包括第一驱动机构和搅拌桨，所述搅拌桨设置在所述循环腔室内，且所述搅拌桨与所述第一驱动机构传动连接并能够在所述第一驱动机构的驱使下以自身轴线为轴旋转。

4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于：所述搅拌桨上还设置有多个孔洞，在以所述搅拌桨对原料进行搅拌时，所述原料能够于所述孔洞中流动。

5.根据权利要求3所述的系统，其特征在于：所述第一输料管路还与搅拌桨固定连接，并能够随所述搅拌桨一起转动。

6.根据权利要求3所述的系统，其特征在于：所述第一搅拌单元还包括第二驱动机构，所述第二驱动机构与所述搅拌桨传动连接，并至少用以驱使所述搅拌桨沿自身轴线方向往复运动。

7.根据权利要求6所述的系统，其特征在于：所述搅拌桨在以自身轴线为轴旋转的同时沿自身轴线方向往复运动。

8.根据权利要求6所述的系统，其特征在于：所述第一驱动机构为旋转驱动机构，所述第二驱动机构为直线驱动机构。

9.根据权利要求3所述的系统，其特征在于：所述搅拌单元还包括第二搅拌单元，所述第二搅拌单元包括第三驱动机构，所述第三驱动机构与所述反应腔室、循环腔室传动配合，并至少用以驱使所述反应腔室和循环腔室旋转，其中，所述反应腔室和循环腔室旋转的旋转方向和搅拌桨旋转的方向相同或相反。

10.根据权利要求9所述的系统，其特征在于：所述第三驱动机构为旋转驱动机构。

11.根据权利要求3所述的系统，其特征在于：所述循环腔室内还设置有磁力搅拌机构。

12.根据权利要求3所述的系统，其特征在于：所述氮气供给单元包括氮气供给机构和输气管路，所述输气管路的出气口延伸设置于所述循环腔室的底部。

13.根据权利要求12所述的系统，其特征在于：所述输气管路与所述搅拌桨一体设置，所述搅拌桨与所述氮气供给机构连通，所述搅拌桨的内部具有用于输送氮气的输气通道，所述搅拌桨的一端延伸设置于所述循环腔室的底部，且在所述搅拌桨的该端部设置有出气口。

14.根据权利要求1所述的系统，其特征在于：所述反应腔室设置在所述循环腔室内。