[实用新型]一种带灵敏放大器的存储装置有效

专利信息
申请号: 202021955086.0 申请日: 2020-09-09
公开(公告)号: CN212570998U 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 曹立冬;张凤艳 申请(专利权)人: 合肥立万芯电子科技有限公司
主分类号: H01L27/11568 分类号: H01L27/11568;H01L27/11578;H01L29/06
代理公司: 成都蓉创智汇知识产权代理有限公司 51276 代理人: 谭新民
地址: 230000 安徽省合肥市新站区淮*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 灵敏 放大器 存储 装置
【权利要求书】:

1.一种带灵敏放大器的存储装置,包括灵敏放大器以及存储器,其特征在于,所述存储器包括衬底、翅、第一介质层、栅极、源极和漏极,存储器还设置有凸台和绝缘层,绝缘层设置在衬底上,凸台位于绝缘层上,翅位于凸台上,凸台为绝缘的凸台,第一介质层设置在相邻的翅之间,使各个翅相互独立,栅极位于源极和漏极之间,源极与漏极分别与翅相连,第一介质层上开有沟槽,栅极位于沟槽内,栅极与沟槽之间设置有第二介质层,栅极上设置有第三介质层,第三介质层与栅极之间还设置有第一氢阻断层。

2.根据权利要求1所述的带灵敏放大器的存储装置,其特征在于:所述存储器还包括第二氢阻断层,第二氢阻断层位于第一氢阻断层与第三介质层之间。

3.根据权利要求2所述的带灵敏放大器的存储装置,其特征在于:所述第一氢阻断层为氮化硅层,第二氢阻断层为氧化铝层。

4.根据权利要求3所述的带灵敏放大器的存储装置,其特征在于:所述第一氢阻断层的厚度为5-8纳米,第二氢阻断层的厚度为5-8纳米。

5.根据权利要求1所述的带灵敏放大器的存储装置,其特征在于:所述衬底为单晶硅衬底、单晶锗衬底、绝缘体上硅衬底或绝缘体上锗衬底。

6.根据权利要求1所述的带灵敏放大器的存储装置,其特征在于:所述存储器还包括第一中间层和第二中间层,第一中间层位于翅与漏极之间,第二中间层位于翅与源极之间。

7.根据权利要求6所述的带灵敏放大器的存储装置,其特征在于:所述第一中间层与漏极之间还设置有第一硅层,第二中间层与源极之间还设置有第二硅层。

8.根据权利要求7所述的带灵敏放大器的存储装置,其特征在于:所述第一硅层为多晶硅层,第二硅层为多晶硅层。

9.根据权利要求1所述的带灵敏放大器的存储装置,其特征在于:所述翅为长条形。

10.根据权利要求1所述的带灵敏放大器的存储装置,其特征在于:所述第一介质层为氧化硅层、氮化硅层或氮氧化硅层,第二介质层为氧化硅层、氮化硅层或氮氧化硅层,第三介质层为氧化硅层、氮化硅层或氮氧化硅层。

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