[实用新型]一种用于斜齿光栅纳米压印的装置

权利要求书

1.一种用于斜齿光栅纳米压印的装置，其特征在于：

包括压印腔体和位于压印腔体中的模版固定盘(121)、基板托盘(122)、上伺服电机(132)、下伺服电机(131)、导轨(151)和金属臂(141、142)，模版固定盘(121)位于基板托盘(122)上方，导轨(151)水平布置且固定在上伺服电机(132)下端的输出端上，模版固定盘(121)顶面嵌装于导轨(151)并可沿导轨(151)移动，由上伺服电机(132)带动导轨(151)和模版固定盘(121)沿靠近/远离基板托盘(122)的方向移动；基板托盘(122)底面固定在下伺服电机(131)上端的输出端上，由下伺服电机(131)带动基板托盘(122)沿靠近/远离模版固定盘(121)的方向移动；模版固定盘(121)的两侧设有金属臂(141、142)，两个金属臂(141、142)一端分别连接到模版固定盘(121)，另一端连接到压印腔体上。

2.根据权利要求1所述的一种用于斜齿光栅纳米压印的装置，其特征在于：

所述的上伺服电机(132)和下伺服电机(131)为直线电机。

3.根据权利要求1所述的一种用于斜齿光栅纳米压印的装置，其特征在于：

所述的金属臂(141、142)端部铰接连接到模版固定盘(121)的侧部。

4.根据权利要求1所述的一种用于斜齿光栅纳米压印的装置，其特征在于：

所述的基板托盘(122)上布置有复制硬模具基板(112)或者玻璃基板(211)。

5.根据权利要求1所述的一种用于斜齿光栅纳米压印的装置，其特征在于：

所述的模版固定盘(121)上布置有纳米压印原始模版(111)或者复制硬模具基板(112)。

6.根据权利要求1所述的一种用于斜齿光栅纳米压印的装置，其特征在于：

所述的两个金属臂(141、142)为可伸缩的结构。