[实用新型]一种流量可控光刻胶涂布装置有效
| 申请号: | 202021451245.3 | 申请日: | 2020-07-21 |
| 公开(公告)号: | CN212675359U | 公开(公告)日: | 2021-03-09 |
| 发明(设计)人: | 闵书珍;王晓伟 | 申请(专利权)人: | 苏州理硕科技有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16 |
| 代理公司: | 成都明涛智创专利代理有限公司 51289 | 代理人: | 丁国勇 |
| 地址: | 215000 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 流量 可控 光刻 胶涂布 装置 | ||
本实用新型公开了一种流量可控光刻胶涂布装置,涉及显示技术领域,解决了现有技术中,光刻胶在涂布时,流速控制不准确,导致降低工作人员工作效率的问题,其技术方案要点是:包括排料泵,排料泵通过输送管连接有控流件,输送管一端与排料泵的输出端连接,另一端与控流件的输入端连接;控流件包括两端开口设置的盒体和位于盒体内部的调节件;盒体两侧壁对称设有与调节件插接的条形槽;调节件包括两插接件,插接件由两块三角形卡板重合拼接构成,且两卡板之间形成V形口结构,两个插接件相互拼接,并将两个V形口结构封闭形成位于调节件中部的排流孔;调节件设有控制排流孔大小的调节机构;达到提高工作人员的工作效率和降低成本的效果。
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域,更具体地说,它涉及一种流量可控光刻胶涂布装置。
背景技术
光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,硅片制造中,光刻胶的目的主要有两个,一是将掩模版图形转移到硅片表面顶层的光刻胶中;二是在后续工艺中,保护下面的材料,例如刻蚀或离子注入阻挡层;光刻胶的技术复杂,品种较多,根据其化学反应机理和显影原理,可分负性胶和正性胶两类,光照后形成不可溶物质的是负性胶;反之,对某些溶剂是不可溶的,经光照后变成可溶物质的即为正性胶,利用这种性能,将光刻胶作涂层,就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。
现有技术中,通常将硅片放于匀胶机上,在滴注光刻胶,利用匀胶机的离心力使滴注在硅片上光刻胶均匀的涂覆,但在光刻胶滴注时,滴注速度由人工判断、手动控制,缺少专业的滴注装置,使滴注的速度不方便控制,滴注速度过慢,使匀胶机的工作效率降低,速度过快,造成光刻胶的浪费,从而也使得工作人员的工作效率降低,增加制造成本,降低了经济效益。
因此,如何设计一种流量可控光刻胶涂布装置是我们目前迫切需要解决的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种流量可控光刻胶涂布装置,具有精确控制光刻胶的涂布流量的目的,达到提高工作人员的工作效率和降低成本的效果。
本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:包括排料泵,所述排料泵通过输送管连接有控流件,输送管一端与排料泵的输出端连接,另一端与控流件的输入端连接;所述控流件包括两端开口设置的盒体和位于盒体内部的调节件;所述盒体两侧壁对称设有与调节件插接的条形槽;所述调节件包括两插接件,插接件由两块三角形卡板重合拼接构成,且两卡板之间形成V形口结构,两个所述插接件相互拼接,并将两个V形口结构封闭形成位于调节件中部的排流孔,排流孔呈平行四边形;所述调节件设有控制排流孔大小的调节机构,调节机构位于盒体内部。
通过采用上述技术方案,对放置于匀胶机上的硅片滴注光刻胶时,将光刻胶投入与排料泵的输入端,使在排料泵的作用下,将光刻胶吸入输送管,再经控流件对光刻胶在输送管内部的流量进行控制,控流件内部设有由两插接件组成的调节件,插接件由两卡板拼接,从而使两插接件之间形成位于调节件中部的排流孔,排流孔呈平行四边形,使得调节调节机构时,两插接件发生相向和相离的运动,从而改变排流孔的孔径大小,从而达到改变光刻胶在输送管中流量大小,而在两插接件发生相向和相离的运动过程中,排流孔始终为平行四边形,使排流孔的面积呈线性变化,且可通过调节机构的调节程度,计算出排流孔的面积,从而达到精确控制光刻胶流量的效果,从而提高工作人员的工作效率,降低生产成本,提高了经济效益。
本实用新型进一步设置为:所述调节机构包括螺杆和与螺杆螺纹配合的两连接块;两所述连接块分别与两所述插接件连接;所述螺杆外壁对称设有第一螺纹段和第二螺纹段,第一螺纹段和第二螺纹段分别与两所述连接块螺纹配合,且第一螺纹段和第二螺纹段的螺纹方向相反。
通过采用上述技术方案,利用螺杆和连接块,使的在旋转螺杆时,两连接块能够实现相向或是相离的运动,从而使两插件之间孔径得以改变;螺纹方向相反的第一螺纹段和第二螺纹段从而使两连接块发生相向或是相离的运动。
本实用新型进一步设置为:所述螺杆突伸出盒体的端部设有调节把。
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