[实用新型]靶材溅射装置

说明书

本实用新型公开了靶材溅射装置，包括底座，所述底座的上端中部固定连接有两个支撑板，两个所述支撑板的右端下部均开有移动口，两个所述支撑板的相对面上部共同固定连接有限位杆，右侧所述支撑板的右端上部穿插活动连接有移动装置，所述底座的上端中部开有滑槽，所述滑槽内滑动连接有放置装置，所述底座的上端左部和上端右部均固定连接有挡板，右侧所述挡板的右端下部穿插固定连接有推动装置。本实用新型所述的靶材溅射装置，通过设置放置装置和推动装置，便于两个靶材交替进行镀膜，缩短了更换靶材的时间，提高了生产效率，通过设置移动装置，提高了对靶材轰击的均匀性，延长了靶材的使用寿命。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射技术领域，特别涉及靶材溅射装置。

背景技术

磁控溅射广泛地应用于集成电路、液晶显示器以及薄膜太阳能等领域，荷能粒子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子沉积在基片上成膜，产生的电子在电场力和磁场力的共同作用下，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，并在磁场力的作用下围绕靶面做往返运动，但现有的靶材溅射装置还存在以下不足：1、在镀膜过程中，需要手动操作将旧靶材换下并安装新的靶材上，更换时间较长，影响镀膜效率；2、磁铁不能进行均匀高速的移动，导致靶材不能够均匀的溅射，影响了靶材的使用寿命；故此，我们提出了靶材溅射装置。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供靶材溅射装置，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

靶材溅射装置，包括底座，所述底座的上端中部固定连接有两个支撑板，两个所述支撑板的右端下部均开有移动口，两个所述支撑板的相对面上部共同固定连接有限位杆，右侧所述支撑板的右端上部穿插活动连接有移动装置，所述底座的上端中部开有滑槽，所述滑槽内滑动连接有放置装置，所述底座的上端左部和上端右部均固定连接有挡板，右侧所述挡板的右端下部穿插固定连接有推动装置。

优选的，所述放置装置包括连接板，所述连接板的下端中部固定连接有滑条，所述连接板的上端左部和上端右部均固定连接有放置座，两个所述放置座的上端中部均开有放置槽，两个所述放置槽内均放置有靶材，两个所述放置座的前端上部均开有缺口，所述滑条的下端与滑槽滑动连接。

优选的，所述推动装置包括气缸，所述气缸的输出端贯穿右侧挡板的右端并固定连接有固定板，所述固定板的右端四角均螺纹连接有螺栓，所述固定板的左端通过四个螺栓与右侧放置座的右端固定连接。

优选的，所述移动装置包括驱动电机，所述驱动电机的输出端贯穿右侧支撑板的右端并固定连接有螺旋轴，所述螺旋轴的外表面中部螺纹连接有移动块，所述移动块的右端上部开有限位孔，所述移动块的下端固定连接有金属板，所述金属板的下端固定连接有若干个磁铁，所述螺旋轴的左端和右端均通过轴承分别与左侧支撑板的右端和右侧支撑板的左端活动连接。

优选的，两个所述放置座与两个支撑板之间均互不接触。

优选的，所述移动块通过限位孔与限位杆穿插活动连接。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：

一、通过设置放置装置和推动装置，通过气缸的伸缩可带动两个安装座进行左右移动，可实现两个靶材进行交替镀膜，当其中一个靶材镀膜时，可以对另一个靶材进行更换，缩短了更换靶材的时间，提高了镀膜效率，从而提高了生产效率；

二、通过设置移动装置，通过驱动电机带动螺旋轴进行正反转动，使磁铁能够均匀且高速的进行往返运动，从而提高了对靶材轰击的均匀性，使靶材能够得到均匀的溅射，延长了靶材的使用寿命，通过限位杆可对移动块进行限位，提高了磁铁移动时的稳定性。

附图说明

图1为本实用新型靶材溅射装置的整体结构示意图；

图2为本实用新型靶材溅射装置的放置装置的结构示意图；