[实用新型]一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜

权利要求书

1.一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜，包括釜体（1），其特征在于：所述釜体（1）的内部设置有内腔（2），且内腔（2）的上部左右侧均贯穿连接有下料管（3），并且内腔（2）的顶部中侧贯穿连接有搅拌杆（7），所述下料管（3）的上端固定安装有入料管（16），且下料管（3）的上部贯穿连接有衔接块（4），所述衔接块（4）的内部连接有调节杆（5），且调节杆（5）的内侧固定安装有塞块（6），所述釜体（1）的上侧壁固定安装有电机（8），且电机（8）的输出端连接有搅拌杆（7）的上端，所述搅拌杆（7）的下端固定连接有承接杆（9），且承接杆（9）的下端固定安装有搅拌叶（10），所述内腔（2）的底部贯穿连接有出料管（11），所述釜体（1）的下方放置有收集箱（12），且出料管（11）的下端贯穿连接在收集箱（12）的上部，所述收集箱（12）的内部安装有滤网（13），且滤网（13）的左右两侧均固定连接有调节块（14），所述收集箱（12）的内壁设置有调节槽（15），且调节块（14）连接在调节槽（15）的内部。

2.根据权利要求1所述的一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜，其特征在于：所述内腔（2）的底部和搅拌叶（10）均呈倾斜设置，且搅拌叶（10）贴合连接在内腔（2）底部的内壁。

3.根据权利要求1所述的一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜，其特征在于：所述衔接块（4）和调节杆（5）采用螺纹的方式相连接，且衔接块（4）关于下料管（3）中心左右对称设置。

4.根据权利要求1所述的一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜，其特征在于：所述塞块（6）卡合连接在衔接块（4）的内部，且调节杆（5）与塞块（6）构成转动结构。

5.根据权利要求1所述的一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜，其特征在于：所述塞块（6）的上部呈倾斜设置，且塞块（6）的底部横截面面积尺寸大于下料管（3）的横截面面积尺寸的二分之一。

6.根据权利要求1所述的一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜，其特征在于：所述滤网（13）通过调节块（14）在调节槽（15）内构成滑动结构，且调节块（14）的形状呈“T”字形结构。