[实用新型]一种真空镀膜均气管

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜均气管，包括均气管，所述均气管包括自内而外依次套设的多层气管，所述气管的侧壁上设有气孔，相邻两层所述气管中，内层所述气管的气孔数量小于外层所述气管的气孔数量，相邻两层所述气管之间形成环形腔体，所述环形腔体被分隔为位于其轴向不同位置的多个等容管室，所述管室与其内侧所述气管的气孔一一对应连通,所述管室与其外侧所述气管的气孔一对多的连通。本实用新型公开的真空镀膜均气管，通气管体积小、均匀度理想、结构简单、加工简单，适用环境广泛。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜领域，具体涉及一种真空镀膜均气管。

背景技术

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。

对于反应磁控溅射来说，反应气体在溅射靶面和整炉工件上分布的均匀性直接影响到膜层的均匀性；现有的均气管存在体积大、均匀度不理想、结构复杂、加工困难等因素，限制了它的使用环境。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种真空镀膜均气管，通气管体积小、均匀度理想、结构简单、加工简单。

为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种真空镀膜均气管，包括均气管，所述均气管包括自内而外依次套设的多层气管，所述气管的侧壁上设有气孔，相邻两层所述气管中，内层所述气管的气孔数量小于外层所述气管的气孔数量，相邻两层所述气管之间形成环形腔体，所述环形腔体被分隔为位于其轴向不同位置的多个等容管室，所述管室与其内侧气管的气孔一一对应连通，所述管室与其外侧气管的气孔一对多的连通。

进一步的，相邻两层所述气管中，内层所述气管的气孔朝向与外层所述气管的气孔朝向相背。

进一步的，相邻两层所述气管中，内层所述气管的气孔数量与外层所述气管的气孔数量的比值为1:2。

进一步的，所述均气管包括4层所述气管。

进一步的，所述环形腔体被可拆卸设置的密封圈密封隔离为多个所述管室。

进一步的，最内层所述气管的首端敞开设置，最内层所述气管的末端封闭设置。

进一步的，最内层所述气管的末端设有封口端壁。

进一步的，还包括首端法兰组件，所述首端法兰组件包括法兰A和法兰 B，所述法兰A相对固定的套设在最内层所述气管的首端外侧，所述法兰B 相对固定的设于最外层所述气管的首端，所述法兰A和所述法兰B通过螺栓相对固定。

进一步的，还包括末端法兰组件，所述末端法兰组件包括法兰C和法兰 D，所述法兰C相对固定的设于最外层所述气管的末端，所述法兰D设于所述多层气管的末端，所述法兰C和所述法兰D通过螺栓可拆卸式连接，最内层所述气管的末端抵靠在所述法兰D上，其余所述气管的末端伸入所述法兰 D的环形凹槽内。

由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：本实用新型公开的真空镀膜均气管，通气管体积小、均匀度理想、结构简单、加工简单，适用环境广泛。

附图说明

图1是本实用新型公开的真空镀膜均气管的结构示意图；

图2是图1中A处的局部放大图；

图3是图1中B处的局部放大图；

图4是本实用新型公开的均气管的示意图。