[实用新型]一种掩膜版多功能承载架有效
| 申请号: | 202020590799.5 | 申请日: | 2020-04-20 |
| 公开(公告)号: | CN212112122U | 公开(公告)日: | 2020-12-08 |
| 发明(设计)人: | 李真明;黎增祺;周涛 | 申请(专利权)人: | 南通美精微电子有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;G03F1/00 |
| 代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董成 |
| 地址: | 226001 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 掩膜版 多功能 承载 | ||
本实用新型公开了一种掩膜版多功能承载架,包括承载架,所述承载架的顶部设置有夹持机构,所述承载架的内部设置有第一传动机构,所述夹持机构包括两个支撑板,其中一个所述支撑板固定安装在承载架一侧的顶部,另一个所述支撑板滑动安装在承载架靠近另一侧的顶部,两个所述支撑板相对面的顶部外壁滑动连接有支杆,所述支杆远离支撑板的一端固定连接有三角固定夹,所述支杆与支撑板顶部的腔内设置有第二传动机构,所述三角固定夹包括固定夹,所述固定夹的顶部固定安装有气缸,所述气缸输出轴穿入固定夹内部的一端固定安装有夹块。通过设置夹持机构、第一传动机构和第二传动机构,达到了将掩膜版夹持固定的效果。
技术领域
本实用新型涉及掩膜版技术领域,具体为一种掩膜版多功能承载架。
背景技术
光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro ElectroMechanical Systems,微机电系统)等。
如中国专利公开号CN209793180U包括底座和承载架,底座上设置有呈长方体状且用于容纳待修补掩膜版的凹槽,凹槽的内侧壁形成有台阶,承载架的两端位置可调节地组装于凹槽的相对两内侧壁上,承载架的顶面与台阶的顶面相平齐而共同构成对待修补掩膜版进行支撑的支撑平台。本实用新型实施例通过在底座上设置凹槽、台阶与承载架,从而共同构成对待修补掩膜版进行支撑的支撑平台,可以根据待修补掩膜版的大小灵活调整承载架的位置来平稳放置不同尺寸的待修补掩膜版;根据需要将凹槽的两个相邻侧壁确定为基准边,能方便将同为长方形状的待修补掩膜版的相邻两侧边抵靠在两个基准边上来获得精准的定位,有效提高掩膜版修补精度。
但是这个装置还存在以下不足:这个装置只通过承载架对掩膜版起到支撑的作用,但是无法将掩膜版进行夹持固定。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种掩膜版多功能承载架,具备可以对掩膜版进行夹持固定的优点,解决了无法对掩膜版进行夹持固定的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种掩膜版多功能承载架,包括承载架,所述承载架的顶部设置有夹持机构,所述承载架的内部设置有第一传动机构。
所述夹持机构包括两个支撑板,其中一个所述支撑板固定安装在承载架一侧的顶部,另一个所述支撑板滑动安装在承载架靠近另一侧的顶部,两个所述支撑板相对面的顶部外壁滑动连接有支杆,所述支杆远离支撑板的一端固定连接有三角固定夹,所述支杆与支撑板顶部的腔内设置有第二传动机构。
所述三角固定夹包括固定夹,所述固定夹的顶部固定安装有气缸,所述气缸输出轴穿入固定夹内部的一端固定安装有夹块,所述夹块的底部固定安装上软垫,所述固定夹腔内的底部固定安装有下软垫。
所述第二传动机构包括双向螺纹杆,所述双向螺纹杆转动安装在支撑板顶部的腔内,所述支杆螺纹连接在双向螺纹杆的外壁,所述支撑板前面的外壁固定安装有支撑座,所述支撑座的顶部固定安装有第一减速电机,所述双向螺纹杆穿出支撑板外壁的一端与第一减速电机的输出轴固定连接。
所述第一传动机构包括两个轴承座,两个所述轴承座固定安装在承载架腔内的底部,两个所述轴承座的轴心转动连接有螺杆,另一个所述支撑板的底部固定安装有螺纹块,所述螺纹块螺纹连接在螺杆的外壁,所述承载架远离两个所述轴承座的底部固定安装有电机固定座,所述电机固定座的顶部固定安装有第二减速电机,所述螺杆穿出其中一个轴承座的一端与第二减速电机的输出轴之间固定连接有联轴器。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





