[实用新型]谐振结构和滤波器件有效
| 申请号: | 202020518018.1 | 申请日: | 2020-04-08 |
| 公开(公告)号: | CN211605377U | 公开(公告)日: | 2020-09-29 |
| 发明(设计)人: | 牛建;戴立杰;左成杰;何军 | 申请(专利权)人: | 安徽安努奇科技有限公司 |
| 主分类号: | H01P7/00 | 分类号: | H01P7/00;H01P1/20 |
| 代理公司: | 北京超成律师事务所 11646 | 代理人: | 邓超 |
| 地址: | 230088 安徽省合肥市高新区创*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 谐振 结构 滤波 器件 | ||
1.一种谐振结构,其特征在于,包括:
屏蔽组件,该屏蔽组件包括第一屏蔽层和第二屏蔽层,该第一屏蔽层和该第二屏蔽层相对且间隔设置;
谐振组件,该谐振组件包括谐振柱和与该谐振柱连接的谐振盘,该谐振柱位于所述第一屏蔽层和所述第二屏蔽层之间,且与该第一屏蔽层连接,该谐振盘与该第二屏蔽层形成第一电容;
调谐组件,该调谐组件位于所述谐振盘与所述第一屏蔽层之间,且与所述谐振柱连接,用于与所述第二屏蔽层形成第二电容。
2.根据权利要求1所述的谐振结构,其特征在于,所述调谐组件与所述谐振盘平行设置,且该谐振盘与所述第二屏蔽层平行设置。
3.根据权利要求2所述的谐振结构,其特征在于,所述调谐组件在垂直于该调谐组件的方向上的投影与所述谐振盘在该方向上的投影重合,且被所述第二屏蔽层在该方向上的投影覆盖。
4.根据权利要求3所述的谐振结构,其特征在于,所述调谐组件为多个,多个所述调谐组件平行设置,且间隔分布于所述谐振盘与所述第一屏蔽层之间。
5.根据权利要求2所述的谐振结构,其特征在于,所述调谐组件与所述谐振盘之间的距离为第一距离,该谐振盘与所述第二屏蔽层之间的距离为第二距离,该第一距离等于该第二距离。
6.根据权利要求2所述的谐振结构,其特征在于,所述谐振柱沿垂直于所述谐振盘的方向延伸设置,且垂直于所述第一屏蔽层。
7.根据权利要求1所述的谐振结构,其特征在于,所述谐振柱的一端与所述第一屏蔽层连接、另一端沿靠近所述第二屏蔽层的方向延伸,且穿过所述调谐组件后延伸至所述谐振盘,并与该谐振盘远离所述第二屏蔽层的一侧连接。
8.根据权利要求1所述的谐振结构,其特征在于,所述第一屏蔽层、所述第二屏蔽层、所述谐振柱、所述谐振盘和所述调谐组件,为金属结构。
9.根据权利要求1-8任意一项所述的谐振结构,其特征在于,所述屏蔽组件还包括多个屏蔽柱,所述多个屏蔽柱间隔设置于所述第一屏蔽层和所述第二屏蔽层之间,以围合形成容纳空间,用于对位于该容纳空间的所述谐振组件和所述调谐组件进行电磁屏蔽;
所述调谐组件包括第一调谐结构和第二调谐结构,该第一调谐结构与所述谐振柱连接,该第二调谐结构与所述屏蔽柱连接。
10.一种滤波器件,其特征在于,包括:
连接端口,该连接端口包括第一端口和第二端口;
权利要求1-9任意一项所述的谐振结构,该谐振结构为多个,且分别连接于所述第一端口与所述第二端口之间,用于对通过所述第一端口输入的待处理信号进行滤波处理之后通过所述第二端口输出,或对通过所述第二端口输入的待处理信号进行滤波处理之后通过所述第一端口输出。
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