[实用新型]一种新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器

权利要求书

1.一种新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器，其特征在于，包括燃烧器、反应器本体和点火装置，其中：

所述燃烧器为多层腔体的套筒结构，且所述燃烧器的腔体两端设置有原料入口和喷嘴，且至少所述燃烧器的喷嘴部分由所述反应器本体的一端延伸至其内腔中以使所述燃烧器和所述反应器本体形成一体式的封闭结构，所述反应器本体的另一端设置有反应出口；

所述点火装置设置于靠近所述喷嘴位置处用于点燃反应原料。

2.根据权利要求1所述的新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器，其特征在于，所述燃烧器的中轴线与所述反应器本体的中轴线共线设置。

3.根据权利要求1或2所述的新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器，其特征在于，所述燃烧器的多层套筒由内至外依次包括存在有所述原料入口的第一腔体、存在有点火气体入口的第二腔体、存在有助燃气体入口的第三腔体和存在有调节气体入口的第四腔体，上述第一腔体、第二腔体、第三腔体和第四腔体均与所述喷嘴连通。

4.根据权利要求3所述的新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器，其特征在于，所述喷嘴可拆卸连接于所述燃烧器的出口端，且所述喷嘴由内至外包括分别与所述第一腔体、所述第二腔体、所述第三腔体及所述第四腔体相连通的多层喷射道。

5.根据权利要求3所述的新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器，其特征在于，所述第一腔体内设置有螺旋式扰流混合器以使由所述原料入口进入的各原料气体充分混合。

6.根据权利要求3所述的新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器，其特征在于，所述第二腔体、第三腔体和第四腔体的侧壁上垂直设置有管道以便于设置相应气体入口。

7.根据权利要求3所述的新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器，其特征在于，所述反应器本体的入口端侧壁上还设置有冷却输送气体入口。

8.根据权利要求7所述的新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器，其特征在于，所述冷却输送气体入口与所述喷嘴之间位置处设置有气流分布器以防止气体扰流。

9.根据权利要求1所述的新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器，其特征在于，所述反应器还包括冷却系统，所述冷却系统包括：

套设于所述反应器本体外围的冷却壳，所述冷却壳与内部的所述反应器本体之间形成有冷却介质夹层；所述冷却壳的两端部设置有与所述冷却介质夹层相通的冷却介质入口和冷却介质出口。

10.根据权利要求1所述的新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器，其特征在于，所述反应器本体上靠近所述点火装置位置处还设置有火焰检测器和温度检测器以监控火焰状态。