[实用新型]一种双层覆盖全地下式污水厂布置结构

权利要求书

1.一种双层覆盖全地下式污水厂布置结构，包括埋藏在地面以下的框体(1)，所述框体(1)上端面露出地表，所述框体(1)内部设有用于处理污水的净化部件，所述净化部件至少包括一个紫外消毒池(8)；

其特征在于，所述紫外消毒池(8)所在的框体(1)上端面穿设有一个支撑筒(2)，所述支撑筒(2)下端口延伸至紫外消毒池(8)上端口处，所述支撑筒(2)内壁涂覆有反光层，所述支撑筒(2)上端上方设有锥形斗，锥形斗上端口设有用于将太阳光聚集的聚光镜(4)，所述锥形斗下端口设有用于将汇集的光线折射成平行于支撑筒(2)的凹透镜(3)，所述锥形斗上端设有用于防止粉尘覆盖在聚光镜(4)上的透明罩(5)；

所述紫外消毒池(8)内部设有至少一个梯形状的引导凸起(801)。

2.根据权利要求1所述的双层覆盖全地下式污水厂布置结构，其特征在于，所述紫外消毒池(8)的排水端连接用于对污水进行过滤吸附的过滤箱(7)，所述过滤箱(7)内部设有若干个平行设置的过滤板(702)，过滤板(702)上端与过滤箱(7)上端的活动板(701)连接固定，所述过滤箱(7)右侧的排水端连接排水管(6)；

所述紫外消毒池(8)左侧的进水端连接便于污水中固体杂质沉积的沉积箱(9)，所述沉积箱(9)中设有用于将其底部沉积的沉积物排走的排料组件(900)，所述沉积箱(9)左侧的进水端连接缓存箱(10)，所述缓存箱(10)的上端设有与进水管(11)连接的进水端口。

3.根据权利要求2所述的双层覆盖全地下式污水厂布置结构，其特征在于，所述过滤板(702)为活性炭过滤板。

4.根据权利要求2所述的双层覆盖全地下式污水厂布置结构，其特征在于，所述排料组件(900)包括设置在沉积箱(9)上端的提升筒(904)，所述提升筒(904)下端延伸至沉积箱(9)底部，所述提升筒(904)内部设有提升轴(902)，所述提升轴(902)上端与设置在提升筒(904)上端的提升电机(901)的输出端连接，所述提升轴(902)表面设有用于对物料产生向上推动力的提升叶片(903)，所述提升筒(904)上端外侧设有用于排料的排料管(905)。

5.根据权利要求1-4任一所述的双层覆盖全地下式污水厂布置结构，其特征在于，所述透明罩(5)上设有用于清理其表面灰尘的除尘组件(400)，所述除尘组件(400)包括设置在锥形斗左右两侧的卷绕辊(401)，两个卷绕辊(401)上缠绕有一组透明薄膜(403)，透明薄膜(403)覆盖在透明罩(5)外侧，每个卷绕辊(401)的一端都与转动电机连接固定，所述透明罩(5)的外侧尖角位置设有用于对透明薄膜(403)进行引导的引导辊(402)。

6.根据权利要求5所述的双层覆盖全地下式污水厂布置结构，其特征在于，两个所述转动电机为同步电机。