[发明专利]多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线在审

专利信息
申请号: 202011636956.2 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112853305A 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 王建峰 申请(专利权)人: 深圳市嘉德真空光电有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56
代理公司: 广州市南锋专利事务所有限公司 44228 代理人: 郑学伟;叶利军
地址: 518000 广东省深圳市龙华*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 多功能 真空 纳米 薄膜 镀膜 生产线
【说明书】:

发明公开了一种多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线,包括第一镀膜生产线、第二镀膜生产线及衔接设备,其中,衔接设备包括衔接真空箱及设在衔接真空箱内的旋转平移机构,衔接真空箱衔接在第一镀膜生产线的末端和所述第二镀膜生产线的起始端之间,旋转平移机构设在衔接真空箱内且可驱动载具平移进入所述第二镀膜生产线的起始端,或者驱动所述载具旋转180°进入至所述第二镀膜生产线的起始端。根据本发明实施例提供的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线,可以实现基材的二次镀膜加厚,或者对两个基材进行镀膜,显著提高产能及效率。

技术领域

本发明涉及镀膜加工技术领域,尤其涉及一种多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线。

背景技术

电子设备,已经成为人们随身携带的必需品,随着技术的发展,人们追求电子设备性能的同时,也越来越在意电子设备的外观。近年来,酷炫靓丽的外观逐渐成为商家的卖点之一,例如电子设备的背面具有绚丽图案和色彩,不同的图案色彩,可以定义出各个不同图案版本,例如幻影、极光、冰岛、星空等版本,以供消费者选择。

电子设备外壳的膜层通常为多层结构,需要连续镀膜成型,相关技术中,对于这种多层膜结构的电子设备外壳连续镀膜,镀膜加工难度大,效率低。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本发明的目的在于提出一种多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线。

为实现上述目的,根据本发明实施例的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线,包括:

第一镀膜生产线,适于对载具上的第一基材镀膜;

第二镀膜生产线,适于对所述载具上的第一基材二次镀膜加厚,或者对所述载具上的第二基材镀膜,所述第二镀膜生产线与所述第一镀膜生产线平行布置,所述第一基材和第二基材设在所述载具上相背对的两个面上;

衔接设备,所述衔接设备包括衔接真空箱及设在衔接真空箱内的旋转平移机构,所述衔接真空箱衔接在所述第一镀膜生产线的末端和所述第二镀膜生产线的起始端之间,所述旋转平移机构设在衔接真空箱内且可驱动所述载具平移进入所述第二镀膜生产线的起始端,或者驱动所述载具旋转180°进入至所述第二镀膜生产线的起始端;

当所述载具平移进入至所述第二镀膜生产线的起始端时,通过所述第二镀膜生产线对所述载具上的第一基材二次镀膜加厚,当所述载具旋转180°进入至所述第二镀膜生产线的起始端时,通过所述第二镀膜生产线对所述载具上的第二基材镀膜。

根据本发明实施例提供的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线,具有平行布置的第一镀膜生产线和第二镀膜生产线,第一镀膜生产线的末端和第二镀膜生产线的起始端之间通过衔接设备衔接,衔接设备包括旋转平移机构,当旋转平移机构驱动载具平移进入至第二镀膜生产线的起始端时,可以通过第二镀膜生产线对载具上的第一基材二次镀膜加厚,当旋转平移机构驱动载具旋转180°进入至第二镀膜生产线的起始端时,通过第二镀膜生产线对载具上的第二基材镀膜,如此,该多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线可以实现在基材上二次镀膜加厚,或者对两个基材进行镀膜,显著提高产能及效率。

另外,根据本发明上述实施例的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线还可以具有如下附加的技术特征:

根据本发明的一个实施例,所述第一镀膜生产线和第二镀膜生产线中的每一个均包括:

第一镀膜单元,所述第一镀膜单元包括第一真空箱、第一镀膜机组及第二镀膜机组,所述第一真空箱包括第一真空室及第二真空室,所述第二真空室与所述第一真空室相连通;所述第一镀膜机组组配置在所述第一真空室内,用以在进入至所述第一镀膜真空室内的基材上镀设打底层;所述第二镀膜机组配置在所述第二真空室内,用以在所述打底层上镀设第一光学增亮层;

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