[发明专利]清洗方法及装置、处理器及清洗设备

权利要求书

1.一种清洗方法，其特征在于，包括：

逐级升高或降低清洗介质的温度，并在每次升高或降低所述清洗介质的温度之后，使用改变温度之后的清洗介质清洗骨瓷餐具，以与所述骨瓷餐具进行热交换，使得所述骨瓷餐具的温度与改变温度之后的清洗介质的温度相适应。

2.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述逐级升高或降低清洗介质的温度，并在每次升高或降低温度之后，使用改变温度之后的清洗介质清洗骨瓷餐具包括：

在清洗骨瓷餐具之前，逐级升高清洗介质的温度，并在每次升高温度之后，使用改变温度之后的清洗介质清洗骨瓷餐具；

在清洗骨瓷餐具之后，逐级降低清洗介质的温度，并在每次降低温度之后，使用改变温度之后的清洗介质清洗骨瓷餐具。

3.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述逐级升高或降低清洗介质的温度，并在每次升高或降低温度之后，使用改变温度之后的清洗介质清洗骨瓷餐具包括：

在清洗骨瓷餐具之前，逐级升高清洗介质的温度，并在每次升高温度之后，使用改变温度之后的清洗介质清洗骨瓷餐具；

在清洗骨瓷餐具之后，排出清洗介质，并在室温环境下放置所述骨瓷餐具第一预设时间。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述逐级升高清洗介质的温度包括：

检测室温下清洗介质的温度，获取第一温度数值；

对所述清洗介质进行加热，将所述清洗介质的温度增加第二温度数值；使用改变温度之后的清洗介质清洗骨瓷餐具；

在所述增加后的温度小于第三温度数值的情况下，重复对所述清洗介质进行加热，将所述清洗介质的温度增加第二温度数值；使用改变温度之后的清洗介质清洗骨瓷餐具，直至所述增加后的温度大于或等于所述第三温度数值。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述逐级升高清洗介质的温度包括：

检测室温下清洗介质的温度，确实所述清洗介质的第一温度等级；

对所述清洗介质进行加热，将所述清洗介质的温度增加到下一温度等级；使用改变温度后的清洗介质清洗骨瓷餐具；

在所述清洗介质的温度等级小于第二温度等级的情况下，重复对所述清洗介质进行加热，将所述清洗介质的温度增加到下一温度等级；使用改变温度后的清洗介质清洗骨瓷餐具，直至所述清洗介质的温度等级大于或等于第二温度等级。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述逐级升高清洗介质的温度包括：

检测室温下清洗介质的温度，获取第一温度数值；

对所述清洗介质加热第二预设时长，检测加热后清洗介质的温度；并使用加热之后的清洗介质清洗骨瓷餐具；

在所述加热后清洗介质的温度小于第四温度数值的情况下，重复对所述清洗介质加热第二预设时长，检测加热后清洗介质的温度；并使用加热之后的清洗介质清洗骨瓷餐具，直至所述加热后清洗介质的温度大于或等于第四温度数值。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述逐级降低清洗介质的温度包括：

检测清洗介质的温度，获得第四温度数值；

对所述清洗介质进行降温，将所述清洗介质的温度降低第五温度数值；使用改变温度之后的清洗介质清洗骨瓷餐具；

在所述降低后的温度大于第六温度数值的情况下，重复对所述清洗介质进行降温，将所述清洗介质的温度降低第五温度数值；使用改变温度之后的清洗介质清洗骨瓷餐具；直至所述降低后的温度小于或等于所述第六温度数值。