[发明专利]一种化学机械抛光液及其应用在审
| 申请号: | 202011622815.5 | 申请日: | 2020-12-30 |
| 公开(公告)号: | CN114686888A | 公开(公告)日: | 2022-07-01 |
| 发明(设计)人: | 马健;荆建芬;杨俊雅;李昀;姚颖;蔡鑫元;宋凯;汪国豪;常宾;邱欢 | 申请(专利权)人: | 安集微电子科技(上海)股份有限公司 |
| 主分类号: | C23F3/06 | 分类号: | C23F3/06;C23F3/04 |
| 代理公司: | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人: | 李佳铭;王芳 |
| 地址: | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 化学 机械抛光 及其 应用 | ||
1.一种化学机械抛光液,其特征在于,
包括:研磨颗粒,络合剂,磺酸类表面活性剂,烷醇酰胺表面活性剂,氮唑类腐蚀抑制剂和氧化剂。
2.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,
所述磺酸类表面活性剂选自十二烷基苯磺酸及其钠盐、钾盐或铵盐,对-甲基苯磺酸及其钠盐、钾盐或铵盐,对-乙基苯磺酸及其钠盐、钾盐或铵盐,对-丙基苯磺酸及其钠盐、钾盐或铵盐,烷基二苯醚单磺酸及其钠盐、钾盐或铵盐,烷基二苯醚双磺酸及其钠盐、钾盐或铵盐,2-甲基酰胺-2-甲基丙磺酸及其钠盐、钾盐或铵盐,环己基氨基磺酸及其钠盐、钾盐或铵盐,氨基苯磺酸及其钠盐、钾盐或铵盐,2,4-二氨基苯磺酸及其钠盐、钾盐或铵盐,3-氨基丙烷磺酸及其钠盐、钾盐或铵盐,4-氨基-3-甲基苯磺酸及其钠盐、钾盐或铵盐,1-萘胺-5-磺酸及其钠盐、钾盐或铵盐,2-2’-联苯胺二磺酸及其钠盐、钾盐或铵盐中的一种或多种。
3.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,
所述磺酸类表面活性剂的质量百分比含量为0.0001%-0.2%。
4.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,
所述烷醇酰胺表面活性剂选自二乙醇酰胺、椰油酸单乙醇酰胺、椰油酸二乙醇酰胺、月桂酸二乙醇酰胺、椰子油脂肪酸单乙醇酰胺、椰子油脂肪酸二乙醇酰胺、十二烯基丁二酸二乙醇酰胺、十二碳烯酸单乙醇酰胺、油酸单乙醇酰胺、亚油酸二乙醇酰胺、十六醇磷酸酯二乙醇酰胺、十一烯酸单乙醇酰胺磺基琥珀酸二钠盐、硬脂酸二乙醇酰胺、肉豆蔻酸二乙醇酰胺、N-(2-羟基乙基)-3,5-二羟基苯甲酰胺、N-(2-羟乙基)十二烷基酰胺、2,4-二羟基-N-(2-羟乙基)苯甲酰胺、(Z,Z)-N,N-二(2-羟乙基)-9,12-十八烷二烯酰胺、花生四烯酸乙醇胺、(Z)-N,N-二(2-羟基乙基)-9-十八烯酸酰胺中的一种或多种。
5.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,
所述烷醇酰胺表面活性剂的质量百分比含量为0.0001%-0.2%。
6.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,
所述研磨颗粒为二氧化硅;
所述研磨颗粒的质量百分比浓度为0.05%-1%;
所述研磨颗粒的平均粒径为20-120nm。
7.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,
所述络合剂为选自甘氨酸、丙氨酸、天冬氨酸、天冬酰胺、丝氨酸、苏氨酸、酪氨酸、色氨酸、脯氨酸、半胱氨酸、甲硫氨酸、精氨酸、组氨酸中、缬氨酸、亮氨酸、苯丙氨酸、赖氨酸、谷氨酸、谷氨酰胺、氨三乙酸、乙二胺四乙酸、环己烷四乙酸、乙二胺二琥珀酸、二乙烯三胺五乙酸和三乙烯四胺六乙酸中的一种或多种;
所述络合剂的质量百分比含量为0.1%-3.0%。
8.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,
所述氮唑类腐蚀抑制剂选自1,2,4-三氮唑、3-氨基-1,2,4-三氮唑、4-氨基-1,2,4-三氮唑、3,5-二氨基-1,2,4-三氮唑、5-羧基-3-氨基-1,2,4-三氮唑、3-氨基-5-巯基-1,2,4-三氮唑、5-乙酸-1H-四氮唑、巯基苯并噻唑、甲基苯并三氮唑、5-苯基-1-H-四氮唑、5-甲基四氮唑和5-氨基-1H-四氮唑中的一种或两种;
所述氮唑类腐蚀抑制剂的质量百分比含量为0.001-0.5%。
9.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,
所述氧化剂为过氧化氢;
所述氧化剂的质量百分比含量为0.05%-3.0%。
10.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,
所述化学机械抛光液的pH值为5.0-8.0。
11.一种如权利要求1~10任一所述的化学机械抛光液在金属铜的抛光中的应用。
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