[发明专利]一种钽镀层及其制备方法及牙种植体在审
| 申请号: | 202011616833.2 | 申请日: | 2020-12-30 |
| 公开(公告)号: | CN112813404A | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
| 发明(设计)人: | 聂全新;李小平;张亚军;杜领会;任志东;张静;李积贤;宿康宁;雒敏;黄浩;胡瑞升 | 申请(专利权)人: | 宁夏东方钽业股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/06 | 分类号: | C23C16/06;A61L27/30;C23C14/16;C23C14/24 |
| 代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 赵剑峰;刘海罗 |
| 地址: | 753000 宁夏回族*** | 国省代码: | 宁夏;64 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 镀层 及其 制备 方法 种植 | ||
1.一种化学气相渗透制备钽镀层的方法,包括以下步骤:
(1)提供化学气相渗透设备,所述化学气相渗透设备包括用于容纳待镀工件的反应腔室和靶材加热炉,靶材加热炉用于向反应腔室提供靶材蒸汽;
(2)将待镀工件置于反应腔室中,将反应腔室抽真空;
(3)将待镀工件预热;
(4)将钽靶材置于靶材加热炉中加热以产生钽靶材蒸汽;
(5)向靶材加热炉通入惰性气体,使惰性气体与钽靶材蒸汽一同向反应腔室中扩散,在待镀工件表面形成钽镀层。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于以下一项或多项:
-步骤(2)中,所述反应腔室被抽真空至1×10-3Pa以下;
-步骤(3)中,预热的温度为500~700℃。
-步骤(4)中,所述钽靶材被加热至6000~6300℃;
-步骤(4)中,所述钽靶材的钽纯度≥99.99%,各杂质元素<0.005ppm,所述杂质元素为Al、Cr、U、Th、As、Hg或Pb;
-步骤(5)中,惰性气体为氩气。
3.根据权利要求1所述的方法,还包括制备钽靶材的步骤,包括:
1)采用电子束炉熔炼制备钽铸锭,钽锭的Ta纯度≥99.995%,各杂质元素<0.005ppm高纯锭材,所述杂质元素为Al、Cr、U、Th、As、Hg或Pb;
2)对钽铸锭进行锻造、轧制和真空热处理,获得钽靶材。
4.根据权利要求1所述的方法,还包括以下步骤:
将所述待镀工件在放入反应腔室之前,对待镀工件进行预处理;
所述预处理依次包括以下操作:蒸馏水超声清洗、去污剂超声清洗、异丙酮超声清洗、丙酮超声清洗、蒸馏水超声清洗、、蒸馏水超声清洗、蒸馏水冲洗、吹干。
5.根据权利要求1所述的方法,待镀工件的成分为金属、陶瓷、玻璃或塑料;
优选地,待镀工件的成分为钛金属、钛合金或不锈钢。
6.根据权利要求1~5任一项所述的方法,所述待镀工件为牙种植体。
7.一种钽镀层,由权利要求1~6任一项所述的方法制备获得。
8.根据权利要求7所述的钽镀层,其具有以下一项或多项特征:
-钽纯度≥99.995%,各杂元素<0.005ppm,所述杂元素为Al、Cr、U、Th、As、Hg或Pb;
-镀层与待镀工件的结合强度≥20MPa;
-镀层的厚度≥10μm。
9.一种具有钽镀层的工件,由以下方法制备获得:按照权利要求1~6任一项所述的方法在待镀工件表面制备钽镀层。
10.根据权利要求9所述的工件,其为具有钽镀层的牙种植体。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





