[发明专利]一种具有修正装置的镀膜设备及镀膜修正方法

说明书

本发明涉及了一种具有修正装置的镀膜设备及镀膜修正方法，所述具有修正装置的镀膜设备设有水平放置的真空室，所述真空室内部设有：工件夹具装置，设于所述真空室的顶部，用于放置待镀膜的工件；膜料蒸发源，设于所述真空室的底部，用于蒸发膜料蒸汽对所述工件进行镀膜；以及修正装置，包括支撑杆与修正板，所述修正板连接于所述支撑杆上；所述修正板位于所述膜料蒸发源与所述工件夹具装置两者之间、且可沿着水平方向相对于所述工件夹具装置转动，用于调整蒸汽的分布使得所述工件上生成厚度均匀的薄膜。通过上述设置，可解决目前镀膜设备中固定修正装置的蒸汽修正效果不好、导致工件镀膜后形成的薄膜膜厚分布不均匀的技术问题。

技术领域

本发明涉及光学薄膜镀膜技术领域，具体涉及一种具有修正装置的镀膜设备及镀膜修正方法。

背景技术

目前，高精度的光学元器件一般需要预先进行镀膜。根据不同的应用技术要求，镀膜形成的光学薄膜可以是单层膜、也可以是多层膜。其中，单层膜或多层膜两者的厚度量级都是在纳米或微米级，尽管薄膜的厚度很簿，但薄膜厚度不均匀时，不均匀误差会严重影响光学薄膜器件的使用，比如，严重的薄膜不均匀性会导致光学器件的无法实际使用、导致报废。因此，镀膜过程中薄膜的均匀性调整是非常重要的技术。

在光学薄膜的镀膜过程中，当使用不同的镀膜机设备、不同的镀膜工艺、以及采用不同的工件夹具后，形成不同的薄膜，薄膜厚度分布也是不同的。其中，膜料的蒸汽分布是比较明显的影响因素。以往技术中，通过固定设置的修正板来调整镀膜过程中膜料蒸汽分布，从而获得厚度均匀的薄膜。但是，这种修正效果普遍不理想。

此外，在目前的镀膜机设备中，中心无孔、口径大于镀膜机半径的被镀工件通常无法进行加工，造成加工范围受限。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明的目的在于提供一种具有修正装置的镀膜设备及镀膜修正方法，所述具有修正装置的镀膜设备用于解决目前镀膜设备中固定修正装置的蒸汽修正效果不好、导致工件镀膜后形成的薄膜膜厚分布不均匀的技术问题。

为了实现上述发明目的之一，本发明一实施方式提供一种具有修正装置的镀膜设备，设有水平放置的真空室，所述真空室内部设有：

工件夹具装置，设于所述真空室的顶部，用于放置待镀膜的工件；

膜料蒸发源，设于所述真空室的底部，用于蒸发膜料蒸汽对所述工件进行镀膜；

以及修正装置，包括支撑杆与修正板，所述修正板连接于所述支撑杆上；所述修正板位于所述膜料蒸发源与所述工件夹具装置两者之间、且可沿着水平方向相对于所述工件夹具装置转动，用于调整蒸汽的分布使得所述工件上生成厚度均匀的薄膜。

作为本发明一实施方式的进一步改进，所述工件夹具装置包括工件夹具以及第一驱动电机，所述工件夹具连接于所述第一驱动电机下方，所述第一驱动电机用于驱动所述工件夹具相对于所述修正板反方向转动。

作为本发明一实施方式的进一步改进，所述修正装置还包括第二驱动电机，与所述支撑杆连接，用于驱动所述支撑杆带动所述修正板沿着水平方向逆时针或顺时针转动。

作为本发明一实施方式的进一步改进，所述工件夹具包括工件盘以及连接杆，所述工件盘通过所述连接杆连接于所述第一驱动电机的下方，所述第一驱动电机用于驱动所述连接杆带动所述工件盘相对于所述修正板反方向转动。

作为本发明一实施方式的进一步改进，所述镀膜设备还设有主控装置，分别与所述第一驱动电机、所述第二驱动电机两者电连，用于分别控制电机工况。

作为本发明一实施方式的进一步改进，所述膜料蒸发源的数量为两个以上，所有膜料蒸发源均匀分布于所述工件夹具装置的下方；所述支撑杆与所有膜料蒸发源等距离设置，所述修正板在所有膜料蒸发源的上方转动。

本发明一实施方式还提供一种镀膜修正方法，所述方法基于如上任一项所述的具有修正装置的镀膜设备，包括步骤：