[发明专利]用于确定清洁必要性和/或清洁成功的方法

权利要求书

1.一种用于在可伸缩组件(1)中的传感器(16)的情况下确定措施必要性和/或措施成功的方法，包括以下步骤：

-沿所述可伸缩组件(1)的维修室(11)的方向移动所述传感器(16)；

-分析与所述传感器(16)相关联的属性，

其中，所述属性是所述传感器(16)的表面的至少部分的状态和/或所述维修室(11)中的介质的成分；以及

-从所述分析中得出所述措施。

2.根据权利要求1所述的方法，

其中，所述传感器(16)的所述部分是膜、隔膜、用于桥接电解质的填充开口、传感器轴、玻璃轴、光学测量窗口或电极。

3.根据权利要求1或2所述的方法，

其中，所述分析已经在所述传感器(16)沿着所述维修室(11)的所述方向的所述移动期间进行，并且进行了连续分析。

4.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，

其中，所述介质是清洁液、冲洗液或待由所述传感器分析的介质，所述介质在所述传感器(16)的所述移动期间进入所述维修室(11)。

5.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，

其中，在远离所述可伸缩组件(1)的位置处分析所述介质。

6.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，

其中，得出所述措施包括以下至少一个步骤：

-开始清洁循环，

-更换所述传感器(16)，

-维护所述传感器(16)，或者

-进一步的测量。

7.一种用于确定在可伸缩组件(1)中传感器(16)的清洁必要性和/或清洁成功的系统，所述系统包括：

-具有至少一个维修室(11)的可伸缩组件(1)；

-传感器(16)，所述传感器布置在所述可伸缩组件(1)中并且在维修位置和过程位置之间可移动，其中，处于所述维修位置的所述传感器(16)在所述维修室(11)中；以及

-用于分析与所述传感器(16)相关联的属性的分析设备(6)。

8.根据前述权利要求所述的系统，

其中，所述分析设备(6)是光谱仪、荧光测量设备或基于激光的测量设备，特别是用于测量散射或反射。

9.根据前述权利要求中的任一项所述的系统，

其中，所述可伸缩组件(1)包括在所述维修室(11)上的至少一个光学窗口(20、21)，特别是恰好一个窗口(20)，并且所述分析设备(6)经由所述窗口分析所述属性。

10.根据权利要求9所述的系统，

其中，所述可伸缩组件(1)包括在所述维修室(11)上的至少两个相对布置的光学窗口(20、21)。

11.根据权利要求9所述的系统，

其中，所述可伸缩组件(1)包括在所述维修室(11)上的至少两个不平行的光学窗口(20、21)，特别是所述两个窗口(20、21)彼此正交布置。

12.根据前述权利要求中的任一项所述的系统，

其中，所述可伸缩组件(1)包括至少一个冲洗连接件(7、22)，并且所述分析设备(6)经由所述连接件来分析所述属性。