[发明专利]具有不同正电荷的AIE光敏剂及其制备方法和抗菌应用在审
| 申请号： | 202011497174.5 | 申请日： | 2020-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN112521381A | 公开（公告）日： | 2021-03-19 |
| 发明（设计）人： | 唐本忠;石秀娟;郭子健;宋海鹏 | 申请（专利权）人： | 香港科技大学 |
| 主分类号： | C07D417/04 | 分类号： | C07D417/04;C09K11/06;A61K41/00;A61P31/04;A61K49/00 |
| 代理公司： | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人： | 郭伟刚 |
| 地址： | 中国香港*** | 国省代码： | 香港;81 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 具有 不同 正电荷 aie 光敏剂 及其 制备 方法 抗菌 应用 | ||
【权利要求书】：
1.一种AIE光敏剂，其特征在于，所述AIE光敏剂包含以下结构：
其中，R选自-CH3、-CH2CH3或中的一种，X-选自I-、Br-、Cl-、或PF6-中的一种。
2.如权利要求1所述的AIE光敏剂，其特征在于，所述AIE光敏剂具有如下结构的TBP-1：
3.如权利要求1所述的AIE光敏剂，其特征在于，所述AIE光敏剂具有如下结构的TBP-2：
4.一种用于制备如权利要求1-3中任一项所述的AIE光敏剂的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括在乙腈溶剂中将
与XCH3,XCH2CH3或中的一种反应而得到所述AIE光敏剂，其中，X-选自I-、Br-、Cl-、或PF6-中的一种。
5.一种如权利要求1-3中任一项所述的AIE光敏剂在选择性成像细菌方面的应用。
6.如权利要求5所述的应用，其特征在于，所述AIE光敏剂用于无清洗的细菌成像。
7.一种如权利要求1-3中任一项所述的AIE光敏剂在抗菌方面的应用。
8.如权利要求7所述的应用，其特征在于，所述AIE光敏剂在普通白光的照射下可以选择性杀死细菌。
9.如权利要求7所述的应用，其特征在于，通过TBP-1在暗场抑制哺乳动物细胞内部的革兰氏阳性菌的生长。
10.如权利要求7所述的应用，其特征在于，通过TBP-2在普通白光照射下抑制哺乳动物细胞内部的革兰氏阴性菌的生长，在暗场抑制革兰氏阳性菌的生长。
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