[发明专利]复铁膜及其制备方法、采用该复铁膜的复膜铁在审
| 申请号: | 202011448424.6 | 申请日: | 2020-12-09 |
| 公开(公告)号: | CN114621478A | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
| 发明(设计)人: | 游仁顺;庄孝磊;刘相乾;张志伟;豆敬涛;祁艳群 | 申请(专利权)人: | 上海天臣微纳米科技股份有限公司;上海天臣包装材料有限公司 |
| 主分类号: | C08J7/04 | 分类号: | C08J7/04;C08J7/043;C08J7/06;C08L67/02;C08L69/00;C08L33/12;C08L23/12;C08L23/06;C08L79/08;C08L77/00;B32B15/085;B32B15/09;B32B27/32;B32B27/36 |
| 代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 杨东明;罗洋 |
| 地址: | 201612 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 复铁膜 及其 制备 方法 采用 复膜铁 | ||
1.一种复铁膜,其特征在于,包括依次层叠的印刷层、第一处理层、基膜层、第二处理层、信息层、镀膜层,所述信息层具有视觉防伪信息和光学定位标记,所述光学定位标记供所述印刷层与所述信息层对位。
2.如权利要求1所述的复铁膜,其特征在于,所述光学定位标记包括三角形标记。
3.如权利要求1所述的复铁膜,其特征在于,所述视觉防伪信息包括由猫眼、浮雕、素面全息、柱光栅、金属拉丝条纹中的一种或多种方式所形成的文字和/或图案。
4.如权利要求1所述的复铁膜,其特征在于,所述镀膜层的材料选自铝、ZnS或TiO2。
5.如权利要求1所述的复铁膜,其特征在于,所述镀膜层的厚度为
6.如权利要求1所述的复铁膜,其特征在于,所述第一处理层和所述第二处理层的材料选自水性聚氨酯、溶剂型聚氨酯、丙烯酸、聚酯或醋酸乙烯酯。
7.如权利要求1所述的复铁膜,其特征在于,所述信息层还包括用于印刷套准的十字光标,所述十字光标分布在所述信息层的版面的四周。
8.一种复铁膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:
S1:对基膜层的两侧进行涂层处理,在温度为120-150℃的条件下烘干,在基膜层的两侧得到第一处理层和第二处理层;
S2:在所述第二处理层上印制具有视觉防伪信息和光学定位标记的信息层;
S3:在所述信息层上进行镀膜以形成镀膜层;
S4:识别所述信息层的光学定位标记,根据所述光学定位标记的位置在所述第一处理层上印制印刷层。
9.如权利要求8所述的复铁膜的制备方法,其特征在于,在执行步骤S1的过程中,所述制备方法还包括:用250-350目的网纹辊在所述基膜层的两侧进行涂层处理,涂层处理的同时进行电晕处理。
10.如权利要求8所述的复铁膜的制备方法,其特征在于,在执行步骤S1的过程中,所述制备方法还包括:对所述基膜层的一侧进行涂层处理后,至少静置24小时,再对所述基膜层的另一侧进行涂层处理。
11.如权利要求8所述的复铁膜的制备方法,其特征在于,步骤S2包括以下步骤:
S21:根据所述信息层的内容用电铸法制作微结构模板;
S22:将微结构模板用胶粘贴在印刷辊上,用UV胶通过UV模压的方式将微结构模板上的图案复制到所述第二处理层上,形成所述信息层。
12.如权利要求8所述的复铁膜的制备方法,其特征在于,步骤S3中的所述镀膜层的材料选自铝、ZnS和TiO2,所述镀膜层的厚度为
13.一种复膜铁,其特征在于,包括金属板及如权利要求1至7中任意一项所述的复铁膜,所述复铁膜覆盖于所述金属板的表面上。
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