[发明专利]板体制作方法和弹片组合件

权利要求书

1.一种板体制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

在金属层的第一表面和第二表面进行压干膜处理；

在所述金属层的第一表面和第二表面上划分有效区和无效区，对所述第一表面的所述有效区进行曝光处理，以及在所述第二表面的所述无效区，对所述无效区进行间隔式曝光处理，得到间隔的块状曝光区；

在所述第一表面和所述第二表面上进行显影处理；

在所述第一表面的所述无效区进行第一表面蚀刻，且不贯穿所述金属层，以及在所述第二表面的所述块状曝光区进行第二表面蚀刻，且蚀刻至所述第一表面蚀刻的区域，形成间隔分布的通孔；

在所述第一表面和所述第二表面进行剥膜处理，得到所述板体。

2.根据权利要求1所述的板体制作方法，其特征在于，在所述的在所述第二表面的所述无效区，对所述无效区进行间隔式曝光处理，得到间隔的块状曝光区的步骤中，

采用均匀间隔预定距离L1的方式对所述无效区进行间隔式曝光处理。

3.根据权利要求2所述的板体制作方法，其特征在于，在所述的采用均匀间隔预定距离L1的方式对所述无效区进行间隔式曝光处理的步骤中，

将预定距离L1控制在40μm-100μm之间。

4.根据权利要求1所述的板体制作方法，其特征在于，在所述的对所述第一表面的所述有效区进行曝光处理的步骤中，还包括以下步骤：

对所述第一表面的所述无效区进行半透曝光处理；或

对所述第一表面的所述无效区不进行曝光处理。

5.根据权利要求1所述的板体制作方法，其特征在于，所述第一表面到所述第二表面的距离为d；

在所述的在所述第一表面的所述无效区进行第一表面蚀刻，且不贯穿所述金属层的步骤中，

将所述第一表面蚀刻的槽的深度L2控制在d/2-2d/3之间。

6.根据权利要求1所述的板体制作方法，其特征在于，在所述的在所述第一表面的所述无效区进行第一表面蚀刻，且不贯穿所述金属层的步骤中，

在相邻的两个所述有效区之间，将所述第一表面蚀刻的槽的尺寸L3控制在40μm-60μm之间。

7.根据权利要求1所述的板体制作方法，其特征在于，在所述的在所述第二表面的所述块状曝光区进行第二表面蚀刻，且蚀刻至所述第一表面蚀刻的区域，形成间隔分布的通孔的步骤中，

在相邻两个所述通孔延伸方向上，将所述通孔的尺寸控制在40μm-100μm之间。

8.根据权利要求1所述的板体制作方法，其特征在于，在所述的在所述第一表面和所述第二表面上划分有效区和无效区的步骤中，

将所述无效区在第一方向和第二方向进行多次交叉式的划分，所述第一方向和第二方向垂直，得到多个间隔分布的所述有效区。

9.根据权利要求1所述的板体制作方法，其特征在于，所述金属层采用铜箔。

10.一种弹片组合件，其特征在于，采用权利要求1-9中任一项所述的板体制作方法制作，所述第一表面和所述第二表面的所述有效区对应形成弹片。