[发明专利]一种模型生成方法、装置、存储介质及计算机设备在审

专利信息
申请号: 202011419999.5 申请日: 2020-12-07
公开(公告)号: CN112465945A 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 郭子玮;刘广;崔璐 申请(专利权)人: 网易(杭州)网络有限公司
主分类号: G06T15/00 分类号: G06T15/00;G06T15/04;G06T17/00
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 远明
地址: 310052 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 模型 生成 方法 装置 存储 介质 计算机 设备
【权利要求书】:

1.一种模型生成方法,其特征在于,包括:

获取高模模型的多张渲染图和模型高度信息;

根据预设简易模型、所述模型高度信息以及所述多张渲染图确定初始模型;

根据所述预设简易模型的光照系数和所述初始模型生成目标模型,所述目标模型用于渲染生成虚拟对象。

2.根据权利要求1所述的模型生成方法,其特征在于,所述预设简易模型包括位于三维空间的多个目标点,所述根据预设简易模型、所述模型高度信息以及所述多张渲染图确定初始模型,包括:

根据所述模型高度信息确定所述目标点在二维平面的高度偏移纹理坐标;

根据所述目标点的高度偏移纹理坐标修正所述多张渲染图,并将修正后的所述多张渲染图贴在所述预设简易模型上,以得到初始模型。

3.根据权利要求2所述的模型生成方法,其特征在于,所述根据所述模型高度信息确定所述目标点在二维平面的高度偏移纹理坐标,包括:

确定所述预设简易模型上多个目标点中任意一个目标点的屏幕坐标偏移基本值;

根据所述目标点的屏幕坐标偏移基本值和所述模型高度信息确定所述目标点的高度偏移纹理坐标。

4.根据权利要求3所述的模型生成方法,其特征在于,所述确定所述预设简易模型上多个目标点中任意一个目标点的屏幕坐标偏移基本值,包括:

获取所述简易模型在三维空间中的任意一个目标点的第一向量和对应的第二向量;

根据所述目标点的第一向量、切线向量和对应的第二向量确定所述目标点的二维偏移量;

根据距离系数和所述二维偏移量确定所述目标点的屏幕坐标偏移基本值,所述距离系数由预设公式确定。

5.根据权利要求4所述的模型生成方法,其特征在于,所述获取所述简易模型在三维空间中的任意一个目标点的第一向量和对应的第二向量,包括:

获取三维空间中所述目标点到主相机方向的第一向量;

根据所述目标点的法线向量和切线向量确定所述目标点的第二向量。

6.根据权利要求4所述的模型生成方法,其特征在于,所述根据所述目标点的第一向量、切线向量和对应的第二向量确定所述目标点的二维偏移量,包括:

计算所述目标点的第一向量和切线向量之间的第一点积以及所述目标点的第一向量和对应的第二向量之间的第二点积,以得到所述目标点的二维偏移量。

7.根据权利要求4所述的模型生成方法,其特征在于,所述根据所述目标点的屏幕坐标偏移基本值和所述模型高度信息确定所述目标点的高度偏移纹理坐标,包括:

获取所述高模模型的多个纹理坐标,所述纹理坐标对应所述多个目标点中的一个;

根据所述多个纹理坐标、所述模型高度信息和所述目标点的屏幕坐标偏移基本值确定所述目标点的高度偏移纹理坐标。

8.根据权利要求7所述的模型生成方法,其特征在于,所述模型高度信息包括多个高度值,所述高度值对应所述多个目标点中的一个,所述根据所述多个纹理坐标、所述模型高度信息和所述目标点的屏幕坐标偏移基本值确定所述目标点的高度偏移纹理坐标,包括:

将所述多个高度值二值化;

根据所述目标点对应的二值化后的高度值、预设高度控制比例、所述目标点的屏幕坐标偏移基本值和所述目标点对应的纹理坐标确定所述目标点的高度偏移纹理坐标。

9.根据权利要求8所述的模型生成方法,其特征在于,所述根据所述目标点对应的二值化后的高度值、预设高度控制比例、所述目标点的屏幕坐标偏移基本值和所述目标点对应的纹理坐标确定所述目标点的高度偏移纹理坐标,包括:

计算所述目标点对应的二值化后高度值和预设高低控制比例的第一乘积;

计算所述第一乘积与所述目标点的屏幕坐标偏移基本值的第二乘积;

计算所述第二乘积与所述目标点对应的纹理坐标之间的第一和值,以得到所述目标点的高度偏移纹理坐标。

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