[发明专利]一种半导体芯片生产用接触式光刻机

说明书

本发明公开了一种半导体芯片生产用接触式光刻机，包括底座和固定座，固定座活动连接在底座的内部，底座内部两侧固定连接有第一固定板，第一固定板顶部固定连接有支撑板，支撑板一侧固定连接有连接板，连接板一侧固定连接有第二固定板，第二固定板一侧固定连接在底座的内壁上，支撑板之间活动连接有隔板，其中隔板底部固定连接有限位块，并且隔板底部两侧固定连接有减震板，减震板底部固定连接有气缸，气缸一端固定连接在底座的内壁上，隔板顶部固定连接有三个电动推杆。该种半导体芯片生产用接触式光刻机，解决了现有接触式光刻机无法调节高度，不便于工作人员使用的问题，同时具有良好的固定功能和减震功能。

技术领域

本发明涉及接触式光刻机技术领域，具体为一种半导体芯片生产用接触式光刻机。

背景技术

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上，

接触式光刻机是光刻机的一种，曝光时掩模压在光刻胶的衬底晶片上，其主要优点是可以使用价格较低的设备制造出较小的特征尺寸。接触式光刻和深亚微米光源已经达到了小于0.1 gm的特征尺寸，常用的光源分辨率为0.5 gm左右。接触式光刻机的掩模版包括了要复制到衬底上的所有芯片阵列图形。在衬底上涂上光刻胶，并被安装到一个由手动控制的台子上，台子可以进行X、y方向及旋转的定位控制。掩模版和衬底晶片需要通过分立视场的显微镜同时观察，这样操作者用手动控制定位台子就能把掩模版图形和衬底晶片上的图形对准了。经过紫外光曝光，光线通过掩模版透明的部分，图形就转移到了光刻胶上。接触式光刻机的主要缺点是依赖于人操作，由于涂覆光刻胶的圆片与掩模的接触会产生缺陷，每一次接触过程，会在圆片和掩模上都造成一定的缺陷。因此，接触式光刻机一般用于能容忍较高缺陷水平的器件研究和其他应用方面。

目前，现有的接触式光刻机无法调节高度，不方便工作人员的使用，并且不具备良好的固定和减震功能，因此我们对此做出改进，提出一种半导体芯片生产用接触式光刻机。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供了如下的技术方案：

本发明一种半导体芯片生产用接触式光刻机，包括底座和固定座，所述固定座活动连接在底座的内部，所述底座内部两侧固定连接有第一固定板，所述第一固定板顶部固定连接有支撑板，所述支撑板一侧固定连接有连接板，所述连接板一侧固定连接有第二固定板，所述第二固定板一侧固定连接在底座的内壁上，所述支撑板之间活动连接有隔板，其中隔板底部固定连接有限位块，并且隔板底部两侧固定连接有减震板，所述减震板底部固定连接有气缸，所述气缸一端固定连接在底座的内壁上。

作为本发明的一种优选技术方案，所述隔板顶部固定连接有三个电动推杆，三个所述电动推杆的外侧固定设置有限位弹簧，所述电动推杆和固定座之间设置有防护垫，所述防护垫固定连接在固定座的底面。

作为本发明的一种优选技术方案，所述第一固定板和第二固定板一侧均固定设置有紧固螺栓。

作为本发明的一种优选技术方案，所述支撑板的内部设置有限位滑槽，所述隔板两侧固定连接有限位板，所述限位板固定设置在限位滑槽的内部，并且限位板的宽度为隔板宽度的三分之二。

作为本发明的一种优选技术方案，所述底座的顶面设置有开口槽，所述开口槽和固定座外壁之间的缝隙不得大于2mm。

作为本发明的一种优选技术方案，所述底座底部固定连接有防滑垫。

作为本发明的一种优选技术方案，所述固定座顶部一侧固定连接有控制机，所述控制机一侧固定连接有控制面板，所述固定座顶部的另一侧固定连接有光刻机本体，所述光刻机本体一侧固定连接有工作台。

本发明的有益效果是：