[发明专利]一种高反物体表面缺陷检测方法及系统

权利要求书

1.一种高反物体表面缺陷检测方法，该高反物体为不透明且反射率高的物体，其特征在于，包括以下步骤：

对待检测物表面进行相位偏折初步检测，并标记检测出的可疑缺陷位置；

在可疑缺陷位置处生成覆盖可疑缺陷所在区域的最小规则二维几何图形；

确定最小规则二维几何图形的长度方向；

沿最小规则二维几何图形的长度方向对可疑缺陷进行暗场检测；

根据暗场检测结果确定损毁型缺陷。

2.根据权利要求1所述的高反物体表面缺陷检测方法，其特征在于，所述规则二维几何图形为椭圆形、腰圆形或者矩形。

3.根据权利要求2所述的高反物体表面缺陷检测方法，其特征在于，所述规则二维几何图形为矩形，所述矩形的确定方法包括以下步骤：

获取覆盖缺陷的最小区域；

确定所述最小区域的中心位置；

确定区域相对水平轴的旋转角度；

根据区域的中心位置和区域相对水平轴的旋转角度生成最小矩形。

4.根据权利要求3所述的高反物体表面缺陷检测方法，其特征在于，当所述矩形为正方形时，进行暗场检测的方向为与正方形边长方向中的任一方向。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的高反物体表面缺陷检测方法，其特征在于，所述相位偏折初步检测包括以下步骤：

依次朝向待检测物表面播放横向格雷码图像、纵向格雷码图像、横向正弦条纹图像和纵向正弦条纹图像，并在每幅图像投影完成后同步拍照，以获取用于相位偏折算法的图像；

计算获取到的用于相位偏折算法的图像的光强；

计算出光强的相位主值，并根据所述横向格雷码图像或者纵向格雷码图像的解码周期级数得到连续的绝对相位值；

根据相位-梯度得出梯度图；

对梯度图进行灰度拉伸，得到初步缺陷图。

6.根据权利要求5所述的高反物体表面缺陷检测方法，其特征在于，所述暗场检测包括以下步骤：

对获取的所述最小规则二维几何图形内形成暗场区域，对待检测物的其余部位设置为明场，得到局部暗场光源图；

将所述局部暗场光源图投影到被测物表面，得到最终缺陷图像；

对最终缺陷图像进行分割，得出缺陷的位置和形状。

7.一种表面缺陷检测系统，应用于如权利要求1至6中任一项所述的高反物体表面缺陷检测方法中，其特征在于，包括面阵相机、LCD显示屏和处理器，其中：

所述LCD显示屏和处理器电连接，且朝向待检测物的表面设置，用于朝向待检测物表面投射条纹图像或者暗场光源图；

所述面阵相机与所述处理器电连接，且朝向待检测物的表面设置，用于采集被检测物表面反射的图像；

所述处理器用于接收所述面阵相机采集的图像并对图像进行处理、控制所述LCD显示屏显示的图像内容以及数据的计算。

8.根据权利要求7所述的表面缺陷检测系统，其特征在于，所述待检测物为手机玻璃盖板、抛光金属板、反光晶元体、反光镜或者曲面玻璃。