[发明专利]一种基于薄膜键合的可调谐FP滤光片的制备方法

权利要求书

1.一种基于薄膜键合的可调谐FP滤光片的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

步骤1：制作下金属反射层；

在衬底之上采用热蒸发镀膜方法制备FP滤波器的下金属反射层；

步骤2：制备铌酸锂薄膜通光层：

采用离子注入、键合剥离方法制备铌酸锂薄膜通光层；

步骤3：制备上金属反射层：

采用磁控溅射的方法制备上金属反射层；

步骤4：上金属反射电极图形化制备：

采用光刻、离子束刻蚀工艺制作上金属电极结构，完成可调谐FP滤光片制作；

步骤5：铌酸锂薄膜图形化制备：

采用离子束刻蚀工艺刻蚀去掉未覆盖上金属区域的铌酸锂薄膜，完成可调谐FP滤波器制作。

2.如权利要求1所述的基于薄膜键合的可调谐FP滤光片的制备方法，其特征在于，所述衬底为石英玻璃。

3.如权利要求1所述的基于薄膜键合的可调谐FP滤光片的制备方法，其特征在于，所述衬底为K9玻璃。

4.如权利要求1所述的基于薄膜键合的可调谐FP滤光片的制备方法，其特征在于，所述下金属反射层材料包括Al、Ag。

5.如权利要求1所述的基于薄膜键合的可调谐FP滤光片的制备方法，其特征在于，所述步骤2为：首先对铌酸锂衬底上表面进行H离子注入，将铌酸锂注入面与衬底中的下金属反射层一面进行晶圆级键合，采用热剥离方法将铌酸锂衬底去除，留下带铌酸锂薄膜与下金属反射层键合结构基底。

6.如权利要求5所述的基于薄膜键合的可调谐FP滤光片的制备方法，其特征在于，所述步骤2中，所述铌酸锂薄膜的切向、厚度和厚度可自由选择。

7.如权利要求5所述的基于薄膜键合的可调谐FP滤光片的制备方法，其特征在于，所述步骤3为：在带铌酸锂薄膜与下金属反射层的基底之上，采用磁控溅射的方法溅射上金属反射层。

8.如权利要求1所述的基于薄膜键合的可调谐FP滤光片的制备方法，其特征在于，所述上金属反射电极图形化为线列型、瓦片型或马赛克型。

9.如权利要求1所述的基于薄膜键合的可调谐FP滤光片的制备方法，其特征在于，所述上金属反射层材料包括Al、Ag。

10.如权利要求1所述的基于薄膜键合的可调谐FP滤光片的制备方法，其特征在于，所述步骤5中，采用包括RIE、ICP在内的干法刻蚀工艺刻蚀去掉未覆盖上金属区域的铌酸锂薄膜。