[发明专利]聚合物光固化过程的监测方法、系统、储存介质及装置

权利要求书

1.一种聚合物光固化过程的监测方法，其特征在于，包括以下步骤：

S01，通过预设的光学设备对被测聚合物进行谱域光学相干层析成像，实时获取被测聚合物产生的干涉光谱信号；所述干涉光谱信号中包括相位以及光学深度的信息；

S02，通过提取所述干涉光谱信号中的相位以及光学深度，对固化过程引发的相位变化量进行计算；根据所述相位变化量计算出被测聚合物上表面以及下表面各自的光学深度变化量；

S03，根据被测聚合物上表面以及下表面各自的光学深度变化量，计算出被测聚合物的折射率变化量和收缩应变；

所述干涉光谱信号按以下公式表示：

其中，I表示光强，k表示波数，t表示时间，DC表示直流分量，AC表示自相干分量，M表示被测聚合物表面的个数，j表示被测聚合物表面；I_R表示所述光学设备中的参考面的反射光强，I_j表示被测聚合物第j表面的反射光强；

φ_j(t)表示所述干涉光谱信号的相位，φ_j(t)＝φ_j0+2kΛ_j(t)；φ_j0表示所述干涉光谱信号的初始相位，Λ_j(t)表示光学深度；

所述光学深度变化量按以下公式获取：

其中，ΔΛ_j(t)表示光学深度变化量，λ_c表示所述光学设备的光源的中心波长，Δφ_j(t)表示相位变化量，t₀表示被测聚合物光固化的初始时刻，unwrap{}表示相位解卷绕，diff[]表示差分相位；

所述折射率变化量Δn(t)，按以下公式获取：

其中，A为所述光学设备的光束在被测聚合物上表面经过的点，B为所述光学设备的光束在被测聚合物下表面经过的点，d表示A点与B点之间的距离；ΔΛ_A(t)表示被测聚合物上表面的光学深度变化量，ΔΛ_B(t)表示被测聚合物下表面的光学深度变化量；n₀表示被测聚合物的初始折射率；

所述收缩应变ε(t)，按以下公式获取：