[发明专利]一种高效且低损的机场道面胶黑处理方法

说明书

本发明公开了一种高效且低损的机场道面胶黑处理方法，包括步骤1、向机场跑道胶黑处释放低温媒介；步骤2、通过低温媒介作用，使得胶黑温度降低，脱离高弹态，达到低温状态；步骤3、通过机械力清除方法处理低温状态下的胶黑；步骤4、回收清除掉的胶黑。本发明源于对相关技术缺陷的认识，以及对胶黑的结构、材料性质及形成过程的思考，通过引入低温媒介的作用，提高了除胶速度，降低了孔隙及刻槽中胶黑的清除难度，同时降低了清除胶黑时对道面的损伤，从而更好达到了机场除胶的目的：恢复道面抗滑性能。

技术领域

本发明涉及机场道面维护技术领域，特别是一种高效且低损的机场道面胶黑处理方法。

背景技术

机场道面是航空基础设施的一大重要组成部分，而抗滑性能，则是衡量机场道面能否保障飞机安全起降的一大重要指标。机场道面的抗滑性能，受道面纹理构造的影响很大，主要包括道面的微观纹理构造和宏观纹理构造。

微观纹理构造指波长小于0.5mm的构造。微观纹理构造主要表征集料颗粒本身的表面凹凸构造，为道面提供最基本的抗滑力。宏观纹理构造指波长介于0.5-50mm之间的构造，主要影响高速状态下道面的抗滑能力以及轮胎与道面之间的排水能力。湿道面条件下，道面抗滑性能则主要取决于轮胎与道面之间的排水能力。

在飞机不断的起降过程中，由于飞机机轮与机场道面间剧烈的摩擦力，在巨大的机械力以及摩擦产生的高温的作用下，机轮上的橡胶材料破碎、脱落，附着在机场道面的表面，形成一层具有一定厚度的胶黑，有些甚至嵌入到道面的孔隙中。随着时间的不断积累，有些胶黑层厚甚至可达5mm，大大影响了机场道面的纹理构造，进而导致道面的抗滑性能大幅下降，影响飞机起降安全。

根据《民用机场飞行区场地维护技术指南》(AC-140-CA-2010-3),为了保障机场道面的抗滑性，需要定期对道面进行除胶。现行除胶方法主要包括：高压/超高压水冲法、抛丸冲击法、机械打磨法、化学除胶法。

高压/超高压水冲法利用水射流的冲击，达到清除胶黑的目的。但是高压/超高压水冲法容易损伤道面，同时，道面刻槽、孔隙中的胶黑不易清除，清除效率不高。

抛丸冲击法利用丸料高速冲击道面，使得胶黑脱落。在实际操作过程中，该方法容易造成道面损伤，且清除速度较慢。

机械打磨法采用铣刨机、研磨机或旋转硬质钢丝刷等清除胶黑，易损伤道面，破坏刻槽等。

化学除胶法利用在道面上洒布化学除胶剂来软化并分解胶黑，然后用有压水清除软化的胶黑。该方法对环境有着一定的污染性、容易腐蚀道面、需与其他方法结合且清除速度慢。

综上可知，现有的除胶技术都存在如下两个方面的局限性：

1、清除效率不高，即存在刻槽、孔隙中的胶黑清除不彻底或是整体清除速度慢的问题。

2、容易造成道面损伤，一旦造成微观纹理构造或是宏观纹理构造的损伤，即使胶黑得到了清除，道面抗滑性也难以有效恢复。

因此，针对上述问题，本发明提出了一种高效且低损的除胶方法。

发明内容

本发明要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，提供一种高效且低损的机场道面胶黑处理方法，该高效且低损的机场道面胶黑处理方法能提高清除效率、降低道面损伤，提高道面抗滑性能的恢复程度。

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：

一种高效且低损的机场道面胶黑处理方法，包括如下步骤。

步骤1、向机场道面的胶黑处释放低温媒介。

步骤2、通过低温媒介作用，使得胶黑温度降低，脱离高弹态，达到低温状态。

步骤3、通过机械力清除方法处理所述低温状态下的胶黑。