[发明专利]内嵌掩模的微透镜阵列及使用方法

权利要求书

1.一种内嵌掩模的微透镜阵列，其特征在于，包括基板、无机层、掩膜层以及微透镜阵列；

所述基板的一侧面上形成所述无机层，所述无机层上与所述基板相背离的一侧面上形成所述掩膜层；所述掩膜层上与所述基板相背离的一侧面上形成所述微透镜阵列；

所述掩膜层上的镂空与所述微透镜阵列上的微透镜一一对应；所述掩模层位于所述微透镜阵列入射光方向的焦点深度位置。

2.根据权利要求1所述的内嵌掩模的微透镜阵列，其特征在于，所述镂空为圆形，所述镂空的直径A与所述微透镜的焦距和通光孔径之间的关系，需满足如下条件式：

其中，λ为入射光的波长，f为微透镜的焦距，d为微透镜的通光孔径。

3.根据权利要求1所述的内嵌掩模的微透镜阵列，其特征在于，所述微透镜的厚度与所述微透镜的焦距相等。

4.根据权利要求1所述的内嵌掩模的微透镜阵列，其特征在于，每一所述微透镜与对应镂空之间的对准偏差不超所述镂空直径的10％。

5.根据权利要求1所述的内嵌掩模的微透镜阵列，其特征在于，所述微透镜阵列中微透镜排列方式包括满铺式和非满铺式；

所述满铺式为相邻的微透镜之间不具有间隙，所述非满铺式为相邻的微透镜之间具有间隙。

6.根据权利要求1所述的内嵌掩模的微透镜阵列，其特征在于，所述微透镜的曲面面型为非球面，每一所述微透镜的曲面面型公式z为：

其中，c是曲面的曲率，r是微透镜的径向坐标，k是圆锥系数。

7.根据权利要求1所述的内嵌掩模的微透镜阵列，其特征在于，所述无机层采用二氧化硅层。

8.根据权利要求1所述的内嵌掩模的微透镜阵列，其特征在于，所述基板采用光学玻璃或光学塑料。

9.根据权利要求1所述的内嵌掩模的微透镜阵列，其特征在于，所述微透镜阵列的排布方式包括三角形、四边形、六边形以及八边形中的任一形状。

10.一种权利要求1至9任一项所述的内嵌掩模的微透镜阵列的使用方法，其特征在于，包括如下步骤：

将多束准直光束入射所述微透镜阵列；

所述微透镜阵列使得所述准直光束聚焦于所述掩模层的镂空内，以通过所述掩模层进行次级衍射光和杂散光的过滤；

过滤后的所述准直光束从基板中出射。