[发明专利]共培养装置及共培养方法在审
| 申请号: | 202011287634.1 | 申请日: | 2020-11-17 |
| 公开(公告)号: | CN112824522A | 公开(公告)日: | 2021-05-21 |
| 发明(设计)人: | 藤山阳一;后藤洋臣;叶井正树;田川阳一 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所;国立大学法人东京工业大学 |
| 主分类号: | C12M3/06 | 分类号: | C12M3/06;C12M1/34;C12M1/04;C12M1/02;C12M1/00 |
| 代理公司: | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人: | 杨楷;毛立群 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 培养 装置 方法 | ||
1.一种共培养装置,其特征在于,具备:
第1主体部,具有第1薄膜、第1流路与第2流路,所述第1薄膜包含用于培养细胞的第1主面以及与所述第1主面为相反侧的第2主面,所述第1流路的一部分由所述第1主面划分且供所述第1培养基流动,所述第2流路的一部分由所述第2主面划分且供溶解氧浓度比所述第1培养基高的第2培养基流动;
氧浓度调整部,用于调整供给至所述第1流路的所述第1培养基的溶解氧浓度。
2.如权利要求1所述的共培养装置,其特征在于,
所述氧浓度调整部具有管以及气体交换器,所述管供被供给至所述第1流路的所述第1培养基流动,所述气体交换器构成为在流经所述管的所述第1培养基与所述管的周围的气氛气体之间进行气体交换。
3.如权利要求1所述的共培养装置,其特征在于,
所述氧浓度调整部是第2主体部,所述第2主体部具有:
第2薄膜,包含用于培养细胞的第3主面以及与所述第3主面为相反侧的第4主面;第3流路,一部分由所述第3主面划分,供被供给至所述第1流路的所述第1培养基流动;第4流路,一部分由所述第4主面划分,供溶解氧浓度比流过所述第3流路的所述第1培养基高的第3培养基流动。
4.如权利要求3所述的共培养装置,其特征在于,
还具备三通连接器,该三通连接器具有第1连接口、第2连接口和可连接有隔膜的第3连接口,
流过所述第3流路的所述第1培养基从所述1第连接口向所述三通连接器流入,并且从所述第2连接口流出而被供给至所述第1流路。
5.如权利要求3所述的共培养装置,其特征在于,
还具备容器,贮存有供所述第1主体部以及所述第2主体部浸渍的液体。
6.如权利要求5所述的共培养装置,其特征在于,
还具备加热器,对所述液体进行保温。
7.如权利要求5所述的共培养装置,其特征在于,
还具备脱气装置,脱出所述液体中的氧。
8.如权利要求1所述的共培养装置,其特征在于,
所述第1主体部还具有电极,能够测量所述第1流路和所述第2流路之间的电位差。
9.一种共培养方法,其特征在于,具备:
调整第1培养基的溶解氧浓度的工序;
使调整了溶解氧浓度的所述第1培养基在一部分由培养了细胞的第1薄膜的第1主面划分的第1流路中流动的工序;
使溶解氧浓度比所述第1培养基高的第2培养基在一部分由位于所述第1主面的相反侧的所述第1薄膜的第2主面划分的第2流路流动,并且从所述第2培养基经由所述第1薄膜向所述第1流路侧供给氧的工序。
10.如权利要求9所述的共培养方法,其特征在于,
调整所述第1培养基的溶解氧浓度的工序具有:
使所述第1培养基在一部分由培养有细胞的第2薄膜的第3主面划分的第3流路中流动的工序;
使溶解氧浓度比所述第1培养基高的第3培养基在一部分由位于所述第3主面的相反侧的所述第2薄膜的第4主面划分的第4流路流动,并且从所述第3培养基经由所述第2薄膜向所述第3流路侧供给氧的工序。
11.如权利要求10所述的共培养方法,其特征在于,
还包含将菌加入至在流过所述第3流路后且在第1流路流动前的所述第1培养基中。
12.如权利要求10所述的共培养方法,其特征在于,
还具备对在流过所述第3流路后且流经所述第1流路前的所述第1培养基的一部分进行采集的工序。
13.如权利要求9所述的共培养方法,其特征在于,
通过相对于所述第1培养基的气体交换来进行调整所述第1培养基的溶解氧浓度的工序。
14.如权利要求9所述的共培养方法,其特征在于,
还具备对流过所述第1流路的所述第1培养基以及流过所述第2流路的所述第2培养基中的至少一方进行质量分析的工序。
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