[发明专利]一种基于P型硅片的太阳能电池片及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011279813.0 申请日: 2020-11-16
公开(公告)号: CN112420855A 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 张树德;魏青竹;刘玉申;况亚伟;赵保星;缪乾;符欣;连维飞;倪志春 申请(专利权)人: 苏州腾晖光伏技术有限公司;常熟理工学院
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/068;H01L31/18
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 李萍
地址: 215500 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 硅片 太阳能电池 及其 制备 方法
【说明书】:

本发明公开了一种基于P型硅片的太阳能电池片及其制备方法,简化了制备工艺且太阳能电池片具有较高的转换效率。该太阳能电池片,包括:P型硅片、形成于所述P型硅片正面的正面介质层、位于所述正面介质层上的正面电极、形成于所述P型硅片背面的背面介质层及位于所述背面介质层上的背面电极;其中,P型硅基体具有铝掺杂区域,正面电极与所述P型硅基体的所述铝掺杂区域形成金属接触。铝掺杂区域的制备相较于传统方法,制备过程简单,制备过程温度低,避免体少子寿命降低,保证了电池片的光电转化效率。

技术领域

本发明属于晶硅太阳能电池领域,涉及一种基于P型硅片的太阳能电池片及其制备方法。

背景技术

光伏领域近年来发展迅猛,各种各样的太阳能电池也层出不穷。

专利ZL201920960985.0公开了一种P型晶体硅太阳能电池,它的结构包括:P型晶体硅基底、P++区域、正面减反层、正面金属电极、N型掺杂硅膜层、背面钝化层、背面金属电极、钝化隧穿层、背面电极等。其中,P++区域的制备,需要1000摄氏度以上的高温,使硼扩散到P型晶体硅基底。因而该结构存在以下问题:

1、需要采用掩膜开孔硼扩散的方法制备正面局域P++区域,工序步骤繁琐;

2、硼扩散高于1000℃的高温会造成P型硅片体少子寿命衰减,影响电池转换效率。

发明内容

针对上述技术问题中的至少一个,本发明旨在提供一种P型硅片的太阳能电池片,其具有较高的转换效率;本发明还提供一种P型硅片的制备方法,简化了制备工艺且制备的太阳能电池片具有较高的转换效率。

为达到上述目的,本发明采用的一种技术方案如下:

一种基于P型硅片的太阳能电池片,包括:P型硅片、形成于所述P型硅片正面的正面介质层、位于所述正面介质层上的正面电极、形成于所述P型硅片背面的背面介质层及位于所述背面介质层上的背面电极。所述P型硅片的局部掺杂铝而具有铝掺杂区域,所述正面电极包括铝层及形成于所述铝层之上的银层,所述铝层形成于所述铝掺杂区域上。正面电极的铝层与铝掺杂区形成金属接触,降低了该部分阻值,提高了电池效率。本发明的正面电极为银铝叠层,银叠在铝上面,银的电阻率比铝的电阻率低,银铝叠层可以减小栅线电阻率,从而缩窄栅线宽度,减小栅线遮光面积。

在一实施例中,正面电极为栅线状。

在一实施例中,正面介质层包括形成于所述P型硅片正面上的钝化层及层叠于所述钝化层上的减反层。正面钝化层能够抑制正表面复合,减小正表面复合速率,提高晶硅太阳能电池的光电转换效率。减反层可以减少阳光在正面的反射损失,从而在P型硅片上形成更多载流子。

在一实施例中,所述P型硅片的背面形成有隧穿氧化层,所述隧穿氧化层下层叠有N型多晶硅层,所述背面介质层层叠于所述N型多晶硅层上。隧穿氧化层能钝化P型硅片背表面,降低P型硅片和N型多晶硅层的接触界面复合,进一步提高电池的开路电压和转换效率。

在一实施例中,背面电极为栅线状银电极,所述栅线状银电极穿过所述背面介质层而和所述N型多晶硅层形成金属接触。此处金属接触的阻值较小,有利于提高电池效率。

在一实施例中,背面介质层为氮化硅保护层。此部分提高了开路电压和短路电流。

本发明采用的另一种技术方案如下:

一种如上所述的太阳能电池片的制备方法,包括如下步骤:

A、提供P型硅片;

B、在P型硅片的背面制备隧穿氧化层和本征多晶硅层;

C、磷扩散形成N型多晶硅层;

D、刻蚀去除硅片正面和边缘的磷硅玻璃、PN结和多晶硅;

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