[发明专利]一种抗污釉料、抗污陶瓷制品及其制备方法

权利要求书

1.一种抗污釉料，其特征在于，其原料按照重量百分比计包括：SiO₂ 68～72％，Al₂O₃ 5～7％，CaO 11～15％，MgO 1～3％，K₂O 0.5～1.5％，Na₂O 2.5～4％，SrO 0.5～2％，B₂O₃0.5～2％，ZnO 0.5～1％。

2.根据权利要求1所述的一种抗污釉料，其特征在于，其原料按照重量百分比计包括：SiO₂ 70％，Al₂O₃ 6％，CaO 14％，MgO 2％，K₂O 1％，Na₂O 4％，SrO 1％，B₂O₃ 1％，ZnO 1％。

3.根据权利要求1所述的一种抗污釉料，其特征在于，其原料按照重量百分比计包括：SiO₂ 68％，Al₂O₃ 7％，CaO 15％，MgO 1.5％，K₂O 0.5％，Na₂O 3％，SrO 2％，B₂O₃ 2％，ZnO1％。

4.根据权利要求1所述的一种抗污釉料，其特征在于，其原料按照重量百分比计包括：SiO₂ 72％，Al₂O₃ 5.5％，CaO 12％，MgO 3％，K₂O 1.5％，Na₂O 2.5％，SrO 1.5％，B₂O₃1.5％，ZnO 0.5％。

5.根据权利要求1至4任一项所述的抗污釉料，其特征在于，所述ZnO和所述SrO均为纳米级。

6.一种抗污陶瓷制品，其特征在于，包括坯体层和抗污釉层，所述抗污釉层由权利要求1至5任一项所述的抗污釉料烧制而成。

7.根据权利要求6所述的一种抗污陶瓷制品，其特征在于，所述陶瓷制品包括陶瓷砖、陶瓷洁具、陶瓷餐具。

8.一种抗污陶瓷制品的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、按照重量百分比取权利要求1至5任一项所述的抗污釉料的原料，混合得到预混物，将所述预混物、球石和水按照(1.2～1.4)：1：(0.7～0.9)的质量比混合研磨得到釉浆；

S2、在坯体上布施所述釉浆，烧制即得所述抗污陶瓷制品。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，步骤S2中，烧制时间为75～90min，烧制温度为1250～1340℃。

10.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，在步骤S2之前，预先将所述釉浆过320目筛。