[发明专利]用于显微镜的光学成像设备在审
| 申请号: | 202011269214.0 | 申请日: | 2020-11-13 |
| 公开(公告)号: | CN112817138A | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
| 发明(设计)人: | 凯·瑞特舍尔;马可·宾格尔;帕特里克·佩尔泽 | 申请(专利权)人: | 莱卡微系统CMS有限责任公司 |
| 主分类号: | G02B21/36 | 分类号: | G02B21/36;G02B21/18;G02B21/00 |
| 代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋融冰 |
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 显微镜 光学 成像 设备 | ||
1.一种用于显微镜(100)的光学成像设备(102),包括:
第一光学系统(108),被配置为根据第一成像模式形成与样本(104)的第一区域(210)相对应的第一光学图像,
第二光学系统(112),被配置为根据第二成像模式形成与所述样本(104)的第二区域(214)相对应的第二光学图像,其中所述第一区域和所述第二区域(214)在空间上重合于所述样本(104)的目标区域(242)并且所述第一成像模式和所述第二成像模式彼此不同,
存储器(134),存储适于校正所述第一光学图像中由所述第一光学系统(108)引起的第一光学畸变的第一畸变校正数据、适于校正所述第二光学图像中的由所述第二光学系统(112)引起的第二光学畸变的第二畸变校正数据、以及适于校正所述第一光学图像和所述第二光学图像之间的位置不对准的变换数据,以及
处理器(124),所述处理器被配置为:
基于所述第一畸变校正数据处理表示所述第一光学图像的第一图像数据,用于生成第一畸变校正图像数据,
基于所述第二畸变校正数据处理表示所述第二光学图像的第二图像数据,用于生成第二畸变校正图像数据;以及
基于所述变换数据组合所述第一畸变校正图像数据和所述第二畸变校正图像数据,用于生成表示与所述样本(104)的所述目标区域(242)相对应的组合图像的组合图像数据。
2.根据权利要求1所述的光学成像设备(102),其中所述第一成像模式是宽视场成像模式以及所述第二成像模式是共焦成像模式。
3.根据权利要求1或2所述的光学成像设备(102),其中所述变换数据表示由所述第一光学系统(108)根据所述第一成像模式形成的第一光学参考图像与由所述第二光学系统(112)根据所述第二成像模式形成的第二光学参考图像之间的位置不对准。
4.根据前述权利要求中一项所述的光学成像设备(102),其中提供校准模式,在所述校准模式中,所述处理器(124)被配置为在形成所述第一光学图像和所述第二光学图像之前生成所述变换数据并且将所述变换数据存储在所述存储器(134)中。
5.根据权利要求3或4所述的光学成像设备(102),其中所述处理器(124)被配置为确定表示所述第一光学参考图像和所述第二光学参考图像之间的相关性的相关性数据,并且基于所述相关性数据生成所述变换数据。
6.根据前述权利要求中一项所述的光学成像设备(102),其中由所述变换数据表示的位置不对准包括平移、旋转、缩放、剪切、镜像和/或畸变。
7.根据前述权利要求中一项所述的光学成像设备(102),其中所述处理器(124)被配置为更新所述变换数据并且将所述更新的变换数据存储在所述存储器(134)中。
8.根据权利要求7所述的光学成像设备(102),其中所述处理器(124)被配置为使所述第一光学系统(108)根据所述第一成像模式生成第一光学图像序列,并且使所述第二光学系统(112)根据所述第二成像模式生成第二光学图像序列,
其中,所述处理器(124)被配置为确定所述第一光学图像序列中的一个内的第一跟踪标记(452)并且确定所述第二光学图像序列中的一个内的第二跟踪标记,以及
其中,所述处理器(124)被配置为执行对所述第一跟踪标记和所述第二跟踪标记(452)的跟踪并且基于所述跟踪更新所述变换数据。
9.根据前述权利要求中一项所述的光学成像设备(102),其中所述处理器(124)被配置为基于所述变换数据组合所述第一畸变校正图像数据和第二畸变校正图像数据,使得所述第一光学图像和所述第二光学图像中的一个被映射到由所述第一光学图像和所述第二光学图像中的另一个限定的参考系(KS1,KS2),或者使得两个光学图像被映射到公共参考系(KS3)。
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